Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS 3500 #9380518 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT 3500 ist eine hochpräzise Plasmareaktorausrüstung für Ionenimplantationsprozesse. Es verfügt über ein programmierbares Planungssystem, das eine präzise Dosis- und Stromverteilung ermöglicht. Diese Einheit ist in der Halbleiterindustrie zur Verarbeitung von Halbleiterscheiben weit verbreitet. AKT 3500 besteht aus einer Stromversorgung, einer Plasmaquelle und einer Vakuumkammer. Die Stromversorgung ist für die Steuerung der Stromversorgung der Plasmaquelle zuständig. Es kann so programmiert werden, dass die Menge der an den Prozess gelieferten Energie reguliert wird. Die Plasmaquelle erzeugt ein hochenergetisches Plasma, das dann durch die Stromversorgung ionisiert wird. Dies führt zu einem Strom ionisierter Partikel, mit denen Ionen in das zu verarbeitende Material implantiert werden können. Die Vakuumkammer ist ein abgedichteter, luftdichter Behälter, in dem der Prozess stattfindet. Das zu verarbeitende Material wird in die Kammer eingelegt und dann auf die gewünschte Temperatur erhitzt, um die Implantation der Ionen zu erleichtern. Der Implantationsprozess erfordert typischerweise ein Vakuum von 10-6 Torr. Ist dieser Druck erreicht, wird die Stromversorgung aktiviert und der Ionisationsprozess beginnt. Die Partikel werden durch die Maschine beschleunigt und treffen dann auf das Material, was zu einer Implantation der gewünschten Elemente führt. Das programmierbare Planungstool von AMAT AKT-3500 ermöglicht eine präzise Steuerung des Prozesses. Die Parameter wie Stromdichte und Dosis können programmiert werden, um die gewünschten Ergebnisse zu definieren. Die Anlage ist mit bis zu vier separaten Verarbeitungskanälen mit jeweils einer eigenen Kammer ausgestattet, wodurch mehrere Wafer oder Substrate gleichzeitig bearbeitet werden können. AMAT 3500 ist ein effizientes und genaues Reaktormodell, das in einer Vielzahl von industriellen Anwendungen eingesetzt werden kann. Es ist mit einer benutzerfreundlichen Oberfläche konzipiert und bietet eine präzise Dosis- und Stromkontrolle während eines Ionenimplantationsprozesses. Dies ermöglicht die Anpassung des Implantationsprozesses an spezifische Kundenanforderungen und sichert die Prozessgleichförmigkeit. Diese Ausrüstung ist ein unschätzbares Werkzeug in der Halbleiterscheibenbearbeitung und ist in der Industrie weit verbreitet.