Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS 3500 #9380519 zu verkaufen

ID: 9380519
PECVD System.
AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT 3500 ist ein Reaktor, der für die Herstellung von Halbleitern entwickelt wurde. Es ist in der Lage, fortschrittliche Muster auf Wafern und anderen Substraten mit minimalen Kosten und maximaler Effizienz zu erstellen. AKT 3500 ist eine aktualisierte Version seines Vorgängers AKT 3000 und verfügt über ein patentiertes Verfahren, mit dem dünne Filme gleichmäßiger und präziser als je zuvor auf Substraten abgeschieden und auf Materialien wie Silizium, Glas und Metalllegierungen abgelegt werden können. Der Reaktor verfügt über eine eingebaute Kammer, die in der Lage ist, Vakuumniveaus so niedrig wie 10-6 Torr und ultra-hohe Vakuumniveaus bis 10-9 Torr, so dass eine genaue und präzise Plasmabearbeitung. Es gibt auch eine Reihe von optionalen Zubehörteilen, die dem Reaktor hinzugefügt werden können, wie ein Lastschloß-System und Hochtemperaturzonen-Öfen. AMAT AKT-3500 verfügt auch über erweiterte programmierbare Steuerungssysteme, die es dem Benutzer ermöglichen, den Reaktor auf bestimmte Parameter zu programmieren, und diese Parameter können nach Bedarf angepasst werden. Es kommt auch mit der Fähigkeit, den Abscheidungsprozess in Echtzeit zu überwachen, um sicherzustellen, dass die Ergebnisse genau und konsistent sind. Die Prozessqualitäten von 3500 sind ziemlich bemerkenswert. Dieser Reaktor kann verwendet werden, um Muster mit Linienbreiten bis zu 10 nm zu erzeugen und Auflösungen bis zu 25 nm zu handhaben. Es hat auch die Fähigkeit, hochgenaue 3D-Formen mit viel Präzision zu erstellen. Darüber hinaus ist der Reaktor durch seinen hohen Durchsatz und seine geringe Verarbeitungszeit sehr kostengünstig. Insgesamt ist AKT AKT-3500 ein ausgezeichneter Reaktor zur Erstellung fortschrittlicher Muster und Filme auf verschiedenen Substraten. Der hochwertige Prozess, die programmierbare Steuerung und die geringe Bearbeitungszeit machen ihn zu einem idealen Werkzeug für die Halbleiterherstellung.
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