Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS 3500 #9380523 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT 3500 Reaktor ist eine Niederdruck, chemische Dampfabscheidung (CVD) Ausrüstung für die Verarbeitung von gemusterten und nicht gemusterten Halbleiterscheiben. Das System ist in der Lage, eine Vielzahl von Dotierstoffen und Dielektrika auf der Waferoberfläche abzuscheiden, um elektrische und physikalische Eigenschaften zu verbessern. Das Gerät verfügt über eine Heißwand-CVD-Kammer mit einer Quarz Insertable Component (QIC), die schnelle, kontrollierte Änderungen der Prozessgaskonzentrationen ermöglicht. Dies ermöglicht eine vielseitige Abscheidung von Schichten für eine Vielzahl unterschiedlicher Anwendungen. AKT 3500 Reaktor verfügt auch über eine niedrige Turbulenz Umgebung, die sehr gleichmäßige und wiederholbare Abscheidungsvorgänge bietet. Dies ist ideal für die Verarbeitung von Hochfrequenz- und HF-Geräten sowie Niedertemperaturdielektrika. Die Maschine ist mit einem Temperaturbereich von 50-800C, einem Druckbereich von 0,1-10 Torr und einem Gasbehandlungswerkzeug mit mehreren Prozessgasventilen und Massenstromreglern ausgestattet. Das Asset ist in der Lage, in 400mm Wafer- und 8-Zoll-Wafer-Konfigurationen zu arbeiten, und es kann mit einem erweiterten Temperaturregelpaket ausgestattet werden. AMAT AKT-3500 Reaktor ist ein einfach zu bedienendes und zuverlässiges Modell für Verfahren in einer Vielzahl von Halbleiterherstellungsanwendungen. Das Gerät verfügt außerdem über einen einstellbaren Fokus und ein offenes Kammerdesign, das die Kreuzkontamination reduziert und die Partikelbildung verhindert. Das System ist zudem mit einem schnellen und zuverlässigen Open-Loop Stepper/Scanner ausgestattet, der eine hohe Durchsatzverarbeitung ermöglicht. Das Gerät bietet einfache Wafer-Steuerungsoptionen, so dass mehrere Wafer-Rezepte gleichzeitig ausgeführt werden können. AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT AKT-3500 reactor ist ein ideales Werkzeug zur Abscheidung von Dotierstoffen, Dielektrika und anderen Materialien auf Halbleiterscheiben. Seine fortschrittlichen Eigenschaften und sein robustes Design machen es zu einer idealen Wahl für die Halbleiterverarbeitung. Die Maschine ist zuverlässig, wiederholbar und einfach zu bedienen, so dass sie für eine Vielzahl verschiedener Halbleiteranwendungen geeignet ist.