Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS 5200 #170732 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS 5200 (AMAT 5200) ist eine reaktive Sputterabscheidung, die zur Abscheidung von Dünnfilmbeschichtungen mit kontrollierter Charakteristik auf Halbleiter- und optoelektronischen Wafern entwickelt wurde. Es ist weit verbreitet für die Abscheidung von transparenten leitenden Oxiden (TCOs), Compund-Halbleitern, Metallen und dielektrischen Materialien. APPLIED MATERIALS 5200 ist ein vielseitiges Abscheidewerkzeug mit mehreren Betriebsarten und einer breiten Palette von Prozesssteuerung. 5200 ist ein einzigartiges Magnetron-Sputter-Abscheidungssystem. Es besteht aus einer Vakuumkammer, einem drehbaren Substrathalter, bis zu vier zylindrischen Magnetronsputterquellen und optionalen Quellen für Elektronenstrahlverdampfung, thermische Verdampfung und Ionenstrahlunterstützungsabscheidung (IBAD). Die Sputterquellen werden oben in der Kammer angeordnet und das Substrat dreht sich horizontal in einem Bereich, der durch Hochleistungsmagnete definiert ist. Das Substrat ist auf einem statischen oder magnetisch schwebenden rotierenden Substrathalter montiert. Das Substrat wird entweder durch eine beheizte Heizung oder durch Widerstandspatronen beheizt. Die Wärmesteuerung erfolgt über eine hochempfindliche Proportional-Integral-Derivat (PID) Heizungssteuerung. Durch die Verwendung der Drehsputterquelle wird der für den Betrieb erforderliche Hintergrunddruck bei erhöhter Schichtdickengleichförmigkeit in einem sehr engen Bereich gehalten. AMAT/APPLIED MATERIALS 5200 ist in der Lage, viele verschiedene Arten von Materialien mit einer sehr hohen Abscheidungsrate von bis zu 45 Å/Minute abzuscheiden. Die Magnetronsputterquellen können im DC-, Dual-Frequenz- und/oder RF-Modus betrieben werden, was eine größere Variabilität der Materialzielauswahl und Dickenregelung ermöglicht. Darüber hinaus verleihen die optionalen Quellen für Elektronenstrahlverdampfung, thermische Verdampfung und Ionenstrahlunterstützungsabscheidung (IBAD) der Maschine zusätzliche Vielseitigkeit bei der Schichtabscheidung. AMAT 5200 ist mit verschiedenen Prozessüberwachungsfunktionen ausgestattet. Es verfügt über einen Ionenmesser und separate Durchflusssensoren, die es Anwendern ermöglichen, den Kammerhintergrunddruck während des Abscheidungsprozesses in Echtzeit zu überwachen. Es verfügt außerdem über einen Quad-Segment-Massenstromregler, der die Gase in verschiedene Druckbereiche drosseln kann und dem Benutzer die Möglichkeit gibt, die Prozessgasbedingungen genau abzustimmen. APPLIED MATERIALS 5200 verwendet fortschrittliches Prozesskontrollwerkzeug (APCS), um den Filmabscheidungsprozess zu optimieren. Das APCS ermöglicht eine genaue Zeit-Null-Einstellung für eine präzise Schichtdickenregelung und bietet eine präzise Echtzeit-Überwachung des Schichtabscheidungsprozesses. Das APCS beinhaltet auch einen Sensor für kritische Prozessparameter einschließlich Leistungsregelung, Druck und Temperatur. Abschließend ist 5200 ein vielseitiges Dünnschichtabscheidungswerkzeug mit vielen verschiedenen Anwendungen im Bereich der Optoelektronik, Halbleiter- und Dielektrizitätsbauelementherstellung. Es verfügt über eine Reihe von Betriebsmodi und präzise Prozeßkontrollparameter, um präzise Schichten mit den gewünschten Eigenschaften zu erstellen. Das Tool wird in führenden Labors weltweit in der Forschung eingesetzt und bietet eine zuverlässige und kosteneffiziente Alternative zu anderen Systemen.