Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS 60KO #9226836 zu verkaufen
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ID: 9226836
Weinlese: 2007
PECVD System
Gen 8.5
Maximum substrate size: 2200 mm x 2600 mm
(7) Process chambers with TSLL
Suitable for HIT/HJT cells application
2007 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT 60KO ist eine spezialisierte Vakuumabscheidung/reaktive Sputterausrüstung, die für die Herstellung von fortschrittlichen Materialien und Beschichtungen für Halbleiter- und Mikroelektronik-Technologien entwickelt wurde. Dieses System dient zur präzisen Kontrolle der Abscheidungsreaktionen, um qualitativ hochwertige, ertragreiche und wiederholbare Ergebnisse zu erzielen. AKT 60KO ist eine Hochleistungs-PVD (Physical Vapor Deposition) -Abscheidungseinheit. Die Maschine besteht aus einer Sputterabscheidungsquelle mit einstellbaren Massendurchflussreglern zur präzisen Steuerung der Gasdurchflussraten. Ferner ist ein Rezirkulationsgasfiltrationswerkzeug vorgesehen, um eine saubere Gaszufuhr zu gewährleisten. Diese Anlage verfügt auch über ein einstellbares Hochvakuum-Turbulenzunterdrückungsmodell, das ein entscheidendes Element zur Erzielung einer hochwertigen Zielmaterialabscheidung und niedriger Gasphasenverunreinigungen ist. AMAT 60KO ist für die Abscheidung einer breiten Palette von Material, einschließlich Metall, Keramik und diamantähnlichen Kohlenstoff konzipiert. Es kann auch zum reaktiven Sputtern verwendet werden, wodurch eine Vielzahl von Materialien auf Substraten abgeschieden werden können. Zur präzisen Steuerung der Abscheiderate ist eine einstellbare Quellenversorgungseinrichtung vorgesehen. Dieses System umfasst auch eine optionale reaktive Gasquelle, die verwendet wird, um eine saubere Abscheidekammer während des Sputtervorgangs aufrechtzuerhalten. Die Abscheidekammer selbst ist zur Aufrechterhaltung einer hohen Kammerreinheit ausgelegt. Der Innenraum ist aus Edelstahl gefertigt und mit langlebigen Keramikfliesen ausgekleidet. Eine einstellbare Gaseinspritzeinheit ermöglicht eine präzise Steuerung der Strömung von reaktiven oder nicht-reaktiven Gasen. Die Kammer kann auch mit einer optionalen in-situ Substrat-Kühlmaschine ausgestattet werden, um die Qualität der abgeschiedenen Folie zu verbessern. 60KO umfasst auch eine erweiterte Softwareschnittstelle, die es dem Benutzer ermöglicht, den Ablagerungsprozess an spezifische Bedürfnisse anzupassen. Es ist auch möglich, benutzerdefinierte Rezepte für Ablagerungen zu programmieren. Dieses Werkzeug verfügt außerdem über eine automatische Endpunkterkennung zur einfachen Überwachung des Abscheideprozesses. Insgesamt ist APPLIED MATERIALS 60KO eine fortschrittliche, leistungsstarke PVD/Sputteranlage, die für die Herstellung fortschrittlicher Materialien und Beschichtungen für Halbleiter- und Mikroelektronik-Technologien entwickelt wurde. Es verfügt über eine Reihe von Funktionen, die eine präzise Steuerung des Abscheideprozesses, ein einstellbares Hochvakuum-Turbulenzunterdrückungsmodell sowie eine erweiterte Benutzeroberfläche ermöglichen. Die Ausrüstung wurde entwickelt, um qualitativ hochwertige, wiederholbare Ergebnisse mit außergewöhnlich niedrigen Gasphasenverunreinigungen zu erzielen.
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