Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS 7700 #9269447 zu verkaufen

AMAT / APPLIED MATERIALS 7700
ID: 9269447
Epitaxial reactors.
AMAT/APPLIED MATERIALS 7700 Reaktor ist ein hochpräzises Mehrkammerwerkzeug zur Abscheidung von dünnen Filmen für fortgeschrittene Halbleiteranwendung. Es unterstützt mehrere Prozesstechnologien und mehrere zerstäubte Substrate. Diese Ausrüstung liefert eine genaue, effiziente und wiederholbare Verarbeitung. Anwendungen sind PVD (physical vapor deposition), CVD (chemical vapor deposition), LPCVD (low-pressure chemical vapor deposition), MOCVD (metal-organic chemical vapor deposition) und atomic layer deposition (ALD). Es nutzt fortschrittliche Prozessmodule für verbesserte Leistung und Zugriff auf zusätzliche Prozessfunktionen. Das kamerabasierte Metrologie- und Tunnelmikroskopiemodul gewährleistet die Integrität des Prozesses für eine fortschrittliche nanoskalige Abscheidung. Es kann auch mehrere verschiedene Sputterziele innerhalb des Systems verwenden und bis zu vier Co-Sputter-Prozesse unterstützen. AMAT 7700 Reaktor kann eine Reihe von Substratgrößen und Formen verarbeiten, von kleinen Wafern bis zu großen Substraten. Das Gerät unterstützt auch die Be- und Entladung mehrerer Substrate. Das Add-on Handschuhkarton mit den Kernfunktionen sorgt für hervorragende Prozesswiederholbarkeit und Sicherheit. Die Kompatibilität der Maschine mit dem AMPM-Paket (AMAT PVD Process Management) bietet eine höhere Kontrolle für die kostengünstige Prozessentwicklung und -produktion. Es integriert sich in leistungsstarke Softwaresteuerungen, um die On-Board-Planung und die Auftragsverfolgung, die Prozessaufzeichnung und -berichterstattung sowie die Ferndiagnose-Unterstützung zu ermöglichen. Das Werkzeug ist für eine geringe Gesamtbetriebs- und Wartungsbelastung ausgelegt. Es verwendet eine integrierte Kompensation von etablierten und anerkannten Prozessmodultechnologien, um wiederholbare hohe Leistung zu gewährleisten. Dieser Reaktor verfügt über eine pulsweitenmodulierte Stromversorgung für schnelles Ansprechen und schnelle Stabilisierung. Es bietet auch eine präzise Temperaturregelung. Es verfügt über eine breite Palette von Polarisations- und Ätzoperationen, so dass mehrere Schichten und Prozessschritte konfiguriert werden können. Die Anlage unterstützt zudem zahlreiche physikalische und chemische Sensoren zur Prozessüberwachung. APPLIED MATERIALS 7700 reactor ist ein ideales Werkzeug für fortgeschrittene Halbleiter- und Nanotechnologie-Anwendungen wie MEMS-Geräteherstellung, photonische und optoelektronische Materialabscheidungen und MEMS-Displays, Sensoren und Ultra-Miniaturisierung. Es ist eine zuverlässige Lösung für eine breite Palette von Dünnschichtproduktionsanforderungen in einer Reihe von Branchen.
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