Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS 7710 #9095868 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS 7710 Reaktor ist ein TFE (Three-Field Etch) -System der nächsten Generation, das zum Ätzen fortschrittlicher Halbleiterbauelementstrukturen mit hoher Genauigkeit und hervorragender Gleichmäßigkeit entwickelt wurde. Dieses hochmoderne System ist in der Lage, Feldoxidschichten, Resistschichten, Folienstapel und andere Gerätestrukturen zu durchätzen. AMAT 7710 verwendet ein fortschrittliches TFE-Verfahren, um nahezu perfekte Einheitlichkeit in einer Vielzahl von Gerätestrukturen zu erreichen. Im Zentrum der Fähigkeiten von APPLIED MATERIALS 7710 steht der fortschrittliche TFE-Prozess. TFE wurde entwickelt, um Gerätestrukturen im Vergleich zu herkömmlichen Trockenätzprozessen mit höherer Maßhaltigkeit und überlegener Gleichmäßigkeit zu versehen. 7710 verwendet ein innovatives Dreifeldätzkammerdesign, das zwei Quellgase verwendet, und ein drittes „Bias“ -Feld, um eine einzigartige Ätzumgebung zu schaffen. Quell- und Biasgase werden aktiv gesteuert, um die optimalen Ätzbedingungen für die jeweilige Gerätestruktur zu erzeugen. Diese fortschrittliche Technologie hilft, gleichmäßige Ätztiefen sowie enge Funktionsgrößen zu gewährleisten. AMAT/APPLIED MATERIALS 7710 verfügt über eine neue Vorkonditionierungsstufe. Silizium-Wafer werden einem spezialisierten niedrig schädigenden Trockenätzprozess ausgesetzt, um sicherzustellen, dass die dielektrischen Schichten und andere empfindliche Komponenten vor dem Ätzen hergestellt werden. Dieser Vorkonditionierungsschritt ermöglicht einen kontrollierten Ätzprozess, der die Gerätestruktur vor Beginn des Ätzprozesses optimal vorbereitet. Neben dem fortschrittlichen Vorkonditionierungsschritt verwendet AMAT 7710 auch eine Reihe von Gasplenum-Baugruppen und komplizierte Vakuumsysteme, um die Ätzumgebung zu verwalten. Jede Art von Gerätestruktur erfordert unterschiedliche Ätzbedingungen, da solche ANGEWANDTE MATERIALIEN 7710 in der Lage ist, die Ätzprozessparameter automatisch anzupassen, um die beste Ätzleistung zu bieten. 7710 ist eine ideale Wahl für jeden Kunden, der den Ätzprozess fortschrittlicher Halbleiterbauelementstrukturen optimieren möchte. Mit seinem fortschrittlichen TFE-Verfahren bietet AMAT/APPLIED MATERIALS 7710 hervorragende Gleichmäßigkeit und enge Funktionsgrößen für verbesserte Leistung und Erträge. Neben dem Vorkonditionierungsschritt, komplizierten Gasplenum-Baugruppen und verwalteten Vakuumsystemen ist AMAT 7710 eine hochmoderne Wahl für Ätzgerätestrukturen.