Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS 7710A #9095861 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS 7710A ist ein fortschrittlicher, hochleistungsfähiger CVD-Reaktor, der bei der Abscheidung von Atomschichtmaterialien wie Dünnschichten, Dielektrika, Oxiden und Nitriden verwendet wird. Dieses Werkzeug ist in der Halbleiterindustrie für das Wachstum von Materialien auf dem Mikro- und Nanoskala weit verbreitet. Der AMAT 7710A Reaktor ist ein Zweikammer-Horizontal-CVD-System, das für die automatische Befestigung und Waferübertragung zwischen Kammern ohne Vakuumbruch ausgelegt ist. Es hat eine robuste Edelstahl-Innenkammer mit pyrolytischer Carbon-Auskleidung, rohrförmigen Elektroden und einem keramischen Heizrohr, um einen hochreinen, ultra-niedrigen Temperatur- und Hochtemperatur-CVD-Prozess bereitzustellen. Der Wafer Plate-in-Range ermöglicht den Einsatz von drei Waferdurchmessern von 30 mm bis 125 mm, sowie dicken Prozessscheiben bis 1,2 mm und Dünnschichtsubstraten bis 0,300 mm. APPLIED MATERIALS 7710A verfügt über einen leistungsstarken Massenstromregler, der eine präzise Steuerung der Prozessgase von 10ccm bis 1800ccm Bereich und Dual-Crystal-Quarzfenster für eine perfekte Detektorbetrachtung und -überwachung während des Abscheidungsprozesses ermöglicht. Ein beheizter Kammerumfang sorgt für eine gleichmäßige Temperaturregelung über den Wafer, was zu einem niedrigen Defektivität und Präzisionsprozess führt. Dieser Reaktor beinhaltet auch eine temperaturbasierte Gasschaltung, die durch ein besseres Wafer-Thermomanagement für Dünnschichtanwendungen eine überlegene Spannungsregelung bietet. 7710A ist ein vollautomatisiertes CVD-System mit programmierbarer Rezeptsoftware. Dieser Reaktor weist einen Temperaturbereich bis 200℃ und bis 900℃ auf und kann bis 10Torr mit hohem Druck arbeiten. Es bietet ausgezeichnete thermische Gleichmäßigkeit, Abscheidungsrate und epitaktische Kristallinität. Die modellspezifischen Merkmale erhöhen die Stabilität und Wiederholbarkeit der Verarbeitung und erzielen niedrigere Betriebskosten bei gleichzeitiger strikter Prozesskontrolle. Der interne flüssigkeitsgekühlte Kühlschild schützt den Anwender vor Strahlung und Lärm während des Abscheidungsprozesses. AMAT/APPLIED MATERIALS 7710A Reaktor eignet sich für ein zuverlässiges Wachstum von hochwertigen Materialien auf einer Vielzahl von Substratmaterialien mit der CVD-Technologie. Dieses Tool bietet präzise Prozesskontrolle, ausgezeichnete Defektivität, erhöhten Durchsatz und hohe Erträge. Durch die Anwendung des CVD-Verfahrens kann dieser Reaktor verwendet werden, um Materialien für eine Vielzahl von Anwendungen zu schaffen, wie die Herstellung von optoelektronischen, magnetischen, Anzeige- und Speichergeräten.