Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS 7800 #79682 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS 7800 ist ein industrieller Reaktor zur Herstellung von Halbleitern und anderen komplizierten integrierten Schaltungen. Es ermöglicht Benutzern, ein Material zu nehmen und es auf atomarer Ebene zu manipulieren, um verschiedene Komponenten von integrierten Schaltungen zu erstellen. AMAT 7800 verwendet ein CVD-Verfahren (Chemical Vapor Deposition), um Materialschichten auf das Substrat abzuscheiden. In den Reaktor wird ein Trägergas, wie Wasserstoff, zusammen mit Reagenzien wie Silan, Ammoniak und Acetylen eingeleitet. Dadurch entsteht ein Dampf, der dann schichtweise auf das Substrat abgeschieden wird. Die Abscheiderate und Dicke der Schicht wird durch Einstellung der Temperatur, des Drucks und des Trägergasdurchsatzes gesteuert. Der Controller von APPLIED MATERIALS 7800 überwacht die Temperaturen und Drücke des Prozesses in Echtzeit und ermöglicht es Benutzern, verschiedene Datenmengen zu überwachen. Die In-situ-Spektroskopie gibt Anwendern zusätzliche Einblicke in das Dampfwachstum und hilft bei der optimalen Abscheidung. 7800 enthält auch Plasmabearbeitung, um eine Vielzahl von verschiedenen Formen von Schichten, wie Siliziumnitrid oder Siliziumoxid zu schaffen. Das Plasma wird durch Aufbringen von HF-Leistung auf das Substrat erzeugt, das den Dampf zerlegt und die entsprechenden Schichten erzeugt. Zusätzlich ermöglicht die Technologie die Dotierung von Substratmaterialien mit Elementen wie Phosphor oder Arsen. Insgesamt ist AMAT/APPLIED MATERIALS 7800 ein extrem fortschrittlicher Reaktor, der aufgrund seiner hohen Präzision die Herstellung komplizierter Komponenten für integrierte Schaltungen ermöglicht. Die Verwendung von CVD, Plasmabearbeitung und In-situ-Spektroskopie ermöglicht es Benutzern, hochwertige Schichten mit Genauigkeit und Gleichmäßigkeit zu erstellen. Es ist ein sehr zuverlässiges System, das gleichbleibende Ergebnisse unabhängig vom Substratmaterial oder der Anwendung gewährleistet.