Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS 7810 #9077262 zu verkaufen
URL erfolgreich kopiert!
ID: 9077262
Weinlese: 1990
CVD system
Pump and cabinet
Currently de-installed
1990 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS 7810 ist ein fortschrittlicher CVD-Reaktor, der für Prozessfähigkeiten in einer Vielzahl von Anwendungen entwickelt wurde. Die fortgeschrittene plasmaerhöhte chemische Dampfabsetzungsausrüstung ist ein ertragsreiches Hochleistungsprozesswerkzeug für die Absetzung von sehr dünnen Filmen für fortgeschrittene Gerättechnologien. Der Reaktor AMAT 7810 ist für niedrige Verbrauchskosten ausgelegt und bietet ein niedriges Preis-Leistungs-Verhältnis. Das System kann als einzelner Wafer- oder Batch-Prozess sowie als breites Spektrum von In-situ-Messtechnik-Systemen konfiguriert werden. Es ist mit einem einzigen elektrostatischen Wafer-Spannfutter oder einer Multiprozesskammer ausgestattet, um erweiterte Chargen- und Einzelwaferprozesse zu ermöglichen. APPLIED MATERIALS 7810 Reaktor verfügt auch über fortschrittliche Plasmaquellentechnologie, einschließlich der Plasma Enhanced CVD (PECVD) Quelle. Diese Technologie ermöglicht unter anderem die Prozesskontrolle über Temperatur, Ionenkonzentration, Ionenfluss und Flußprofil. 7810 Substrathalter fasst bis zu sechs 12-Zoll-Silizium-Wafer mit einer einzigen Last und umfasst eine Wafer-Rotationsvorrichtung und eine zentrale Vakuumöffnung. Die Wafer-Drehvorrichtung ist mit einem integrierten Regler verbunden, der Positionsgenauigkeit und Genauigkeit bietet und eine präzise Platzierung des Wafers während der Abscheidung ermöglicht. Der Reaktor ist auch mit einer geschlossenen Wafer-Temperaturregeleinheit integriert, um die Wafertemperatur während der Prozesse konstant zu halten. AMAT/APPLIED MATERIALS 7810 Reaktor hat eine fortschrittliche in-situ Überwachungsmaschine, die Echtzeit-Überwachung des Abscheidungsprozesses bieten kann. Die integrierte Abkühlfunktion und der In-situ-Monitor ermöglichen eine schnelle Zykluszeit und Prozessoptimierung. Die fortschrittlichen Überwachungs- und Kühlfunktionen von AMAT 7810 bieten auch eine präzise Kontrolle der Abscheideraten und Schichtdicke, was zu höherer Ausbeute und verbessertem Prozessergebnis führt. Neben den erweiterten Werkzeugfunktionen bietet APPLIED MATERIALS 7810 auch fortschrittliche Sicherheits- und Wartungssteuerungssysteme. Eine Gasdruckkontrolle sorgt für Sicherheit und Genauigkeit, und ein proprietärer geschlossener Kreislauf in situ Drucküberwachung sorgt für einen ununterbrochenen und effizienten Betrieb. 7810 hat auch einen modularen Aufbau für einfache Wartung und Upgrades. Insgesamt ist AMAT/APPLIED MATERIALS 7810 ein fortschrittlicher CVD-Reaktor, der für überlegene Prozessfähigkeiten für eine Vielzahl von Anwendungen entwickelt wurde. Dank fortschrittlicher Überwachungs- und Kühlsysteme, niedriger Verbrauchsgebühren, präziser Prozesskontrolle und niedrigem Preis-Leistungsverhältnis ist AMAT 7810 eine ausgezeichnete Wahl für die fortschrittliche Geräte- und Technologieherstellung.
Es liegen noch keine Bewertungen vor