Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS AE Minos chamber for Centura DPS II #293650481 zu verkaufen

AMAT AE Minos DPS II Chamber ist ein Hochleistungs-Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition (PECVD) Reaktor zur Herstellung von Halbleiterbauelementen. Der AE Minos DPS II ermöglicht eine robuste, stark wiederholbare Verarbeitung von Dünnschichtmaterialien, die in Halbleiterbauelementen verwendet werden. Die Kammer bietet eine fortschrittliche Gleichmäßigkeitskontrolle, schnelle Abscheideraten und einen hohen Durchsatz. Der AE Minos DPS II verfügt über eine flache, quadratische Prozesskammer für Gleichmäßigkeit und verbesserte Wafer-zu-Wafer-Wiederholbarkeit. Diese Kammer ist mit einer fortschrittlichen, Drei-Punkte-Gleichmäßigkeitskontrolle ausgestattet, die es dem Bediener ermöglicht, Parameter zu überwachen und anzupassen, um die Gleichmäßigkeit der Dünnschichtabscheidung zu verbessern. Die Kammer ist außerdem mit einem Hochleistungs-Plasmasystem ausgestattet, das eine verbesserte und stabile Gleichmäßigkeit bietet. Dieses System beinhaltet auch eine 3-Zonen-Bias-Kontrolle, um reaktive Ionenerosion zu reduzieren. Der AE Minos DPS II verfügt über eine flexible Abscheidungsarchitektur, mit der Bediener den Durchsatz und die Abscheidungsrate der Kammer skalieren oder skalieren können. Die Kammer bietet fortschrittliche Prozessflexibilität und die Möglichkeit, eine breite Palette von Dünnschichtmaterialien mit unterschiedlichen Abscheideprozessen abzuscheiden. Zusätzlich kann die Kammer eine Vielzahl von Substraten verarbeiten, darunter Silizium, Galliumarsenid, Indiumphosphid und andere Verbindungen und Oxide. Der AE Minos DPS II ist mit einer Reihe fortschrittlicher Prozesskontroll- und Überwachungssysteme ausgestattet, darunter Kantenerkennung, Gleichmäßigkeitsregelung, automatische Temperaturregelung und Lastsperre. Der AE Minos DPS II verfügt zudem über ein modernes Kühl- und Heizsystem zur Temperaturregelung in der Kammer während der Verarbeitung, das eine gleichmäßige und konsistente Abscheidung gewährleistet. Der AE Minos DPS II ist für maximale Produktivität und eine schnelle, genaue Dünnschichtabscheidung ausgelegt. Mit seiner flexiblen Architektur, fortschrittlicher Prozesssteuerung und hohem Durchsatz ermöglicht der AE Minos DPS II eine effiziente und leistungsstarke Verarbeitung einer Vielzahl von Halbleiterfilmen und -substraten.