Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS / AKT 3500 SC PECVD #9011154 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT 3500 SC PECVD ist ein Produktionsreaktor der nächsten Generation zur Herstellung sehr dünner dielektrischer und anderer Materialien. Dieser Reaktor verwendet ein Verfahren namens Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition (PECVD), um einen hochwertigen, kostengünstigen Film auf Substraten wie Glas, Kunststoff und Metall zu erstellen. Der Reaktor ist mit einer Niederdruckplasmakammer ausgestattet und in vier verschiedene Kammern für Vakuum- und chemische Reaktionen unterteilt. Es enthält auch Abscheidungsquellen für Phosphor und Stickstoff, so dass Benutzer Filme wie Siliciumoxid abscheiden können. Die Plasmakammer ist mit einer Freon HF-Quelle ausgestattet, die eine niedrige Abscheidungstemperatur ermöglicht, um hervorragende Filmeigenschaften und Substratverträglichkeit zu gewährleisten. Das gesamte Kammervolumen verringert auch Hohlräume in der Folie, was bedeutet, dass die Folie auch bei Abscheidung dünner Filme hervorragende elektrische Eigenschaften für optimale Leistung liefern kann. Der Reaktor verfügt über eine innovative, integrierte, vollständig kontrollierte Quellgasförderanlage, mit der Benutzer die Folienvorläufer für unterschiedliche Anwendungen anpassen können. Dieses System ist auch darauf ausgelegt, die Gasnutzung zu maximieren und die Prozesskosten zu senken. Darüber hinaus umfasst der Reaktor eine automatisierte Reinigungssequenz zum Entfernen von organischem Material, wodurch saubere, trockene Prozesskammern für wiederholbare Prozessabläufe mit einheitlichen Folien bereitgestellt werden. AKT 3500 SC PECVD ist in der Lage, dünne Filme mit einer Mindestdicke von 0,2 Mikrometern zu produzieren. Der Reaktor ist außerdem mit einer Reaktivgaseinspritzeinheit ausgestattet, die eine präzise Steuerung der Abscheidungsparameter, einschließlich der Foliendichte und der Zusammensetzung, ermöglicht. Diese Maschine maximiert die Folienqualität und verbessert die Gleichmäßigkeit der Folie über das Substrat. Insgesamt ist AMAT 3500 SC PECVD ein fortschrittlicher Produktionsreaktor, der entwickelt wurde, um eine hochwertige Dünnschichtabscheidung mit verbesserter Gleichmäßigkeit, Dicke und elektrischen Eigenschaften zu schaffen. Dieser Reaktor nutzt fortschrittliche Technologien, um Emissionen und Kosten zu reduzieren, was eine größere Produktionskapazität ermöglicht. Dank automatisierter Systeme und präziser Quellensteuerung bietet der Reaktor eine zuverlässige, effiziente und kostengünstige Lösung für Dünnschichtabscheidungsprozesse.