Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS / AKT 4300 / 5500 #293661852 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT 4300/5500 reactor ist ein CVD-Reaktor (High-Temperature Chemical Vapor Deposition), der für die kommerzielle Produktion von Halbleitern, Optoelektronik und anderen elektronischen Bauteilen geeignet ist. Dieser Reaktor wurde entwickelt, um eine breite Palette von Folienmaterialien wie diamantähnlichen Kohlenstoff, Siliziumnitrid und Siliziumkarbid auf Substraten wie Silizium, Galliumarsenid und Saphir abzuscheiden. Der Reaktor AKT 4300/5500 nutzt ein Warmwanddesign mit Hochfrequenz-Induktionsheizung und digitaler Temperaturregelung, um die gewünschten Prozesstemperaturen zu erzeugen. AMAT 4300/5500 Reaktor kann Temperaturen bis 1.250 ° C erreichen, die für bestimmte Arten von Filmabscheidungsprozessen erforderlich sind. Diese Fähigkeit wird durch eine geschlossene Gassteuerung und induktiv gekoppeltes HF-Plasma ermöglicht, das stabile, gleichmäßige Temperaturen in der gesamten Reaktionskammer liefert. Die große, zylindrische Reaktionskammer von 4300/5500 Reaktor kann Substrate bis 350 mm Durchmesser verarbeiten und ermöglicht die Herstellung von Großkomponenten. Das fortschrittliche Rotor/Stator-Pumpsystem bietet eine maximale Pumpgeschwindigkeit von 8.000 l/min und kann in Kombination mit einer Wasserstoff- oder Argon-Partialdrucktechnik verwendet werden, um die genaue chemische Umgebung für bestimmte Arten der Filmabscheidung zu schaffen. ANWENDUNGSMATERIALIEN 4300/5500 Reaktor verfügt auch über eine optionale zweitürige kalte Wand für zusätzliche Bearbeitungsflexibilität. Diese Funktion ermöglicht es Kunden, zwischen thermischen und nicht-thermischen Prozessen ohne Vakuumverlust zu wechseln und bietet eine große Flexibilität bei der Probenbeladung und -verarbeitung. Darüber hinaus bietet AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT 4300/5500 Reaktor eine umfassende digitale Prozesssteuerung, die eine einfache Programmierung und Optimierung von Abscheidungsrezepten ermöglicht. Dieser Reaktor ist mit einer Easy-LANG-Sprache zur Einrichtung, Überwachung und Überprüfung aller Prozessschritte sowie zur Vervielfältigung komplexer Abscheidungsabläufe ausgestattet. Der Reaktor AKT 4300/5500 kann für eine Vielzahl von Forschungs- und Produktionsanwendungen verwendet werden, einschließlich der Abscheidung von Halbleiter- und organischen Schichten, der Fällung von Dielektrika und Metallen, Nanokristallen und Nanodrähten. Dieser Reaktor bietet überlegene Leistung und Zuverlässigkeit mit einer Hochspannungs-HF-Quelle und erweiterten Prozessüberwachungsfunktionen, die es Forschern ermöglichen, hervorragende Ergebnisse zu erzielen. AMAT 4300/5500 Reaktor ist eine ideale Lösung für kommerzielle Anwendungen, die Hochtemperatur-CVD-Prozesse erfordern.