Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS ALD Chamber for Endura CL #293663271 zu verkaufen

ID: 293663271
Wafergröße: 12"
12" Part numbers: 800170V2106 26340-QA21-0002.
AMAT Endura CL ALD Reactor ist auf die höchste Qualität und präziseste Atomschichtabscheidung (ALD) für Anwendungen in der Halbleiterindustrie zugeschnitten. Diese ALD-Kammer ist so effizient und kostengünstig wie möglich konzipiert und verfügt über zahlreiche erweiterte Funktionen, die es die ideale Wahl für die Erstellung zuverlässiger und konsistenter Schichten machen. Der Endura CL Reaktor hat ein verbessertes Design, das eine überlegene Umgebung für die Abscheidung bietet. Seine "vergoldete Innen- und Low-Distance-to-Pump-Struktur erhöht den Abscheidungsdurchsatz und hilft, unerwünschte Reaktionsnebenprodukte zu reduzieren. Diese Kammer ist mit einem fortschrittlichen Web-basierten Steuerungssystem ausgestattet, das eine einfache Überwachung von Prozesszeit, Druck und Temperatur ermöglicht. Darüber hinaus ist seine fließfähige Konstruktion vollständig kompatibel mit Helium-, Stickstoff- und Reinwasserstoffsystemen und gewährleistet, dass sie ohne zusätzliche Infrastruktur von verschiedenen Prozessen genutzt werden kann. Die Kammer verfügt außerdem über ein großes Paneelsichtfenster und zahlreiche Anschlüsse für das Gas- und Kühlmanagement. Der Endura CL Reaktor ist für die gleichmäßige Vorstufen-Abscheidung optimiert, wodurch gleichmäßige Schnittstellen mit einem höheren erreichbaren Faktor für die Geräteleistung entstehen. Es verfügt auch über einen sauberen/trockenen Vorläufer Weg, sowie Quick-Change-Wafer Unterstützung und Abscheidung Stufen. Diese Kammer ist konzipiert, um einheitliche ALD-Filme mit ausgezeichneter Stufendeckung auch auf den anspruchsvollsten Substraten durchgehend zu liefern. Als Industriemaschinen ist der Endura CL Reaktor mit Bodenbelagskammern zur Substratübertragung und einer Isolierkammer ausgestattet. Diese bieten eine saubere, störungsfreie Umgebung für die Kammer und helfen, die Kontamination der Substrate zu verhindern. Darüber hinaus verfügt diese Maschine auch über eine vertiefte Substratheizung, die eine genaue Kontrolle über die Prozesstemperaturen ermöglicht und dadurch die Genauigkeit des ALD-Prozesses aufrechterhält. AMAT/APPLIED MATERIALS ALD Chamber for Endura CL ist eines der fortschrittlichsten ALD-Systeme auf dem Markt. So bietet es höchste Qualität und Präzision bei der Erstellung verschiedener Schichten für den Einsatz in der Halbleiterindustrie. Dank seines fortschrittlichen Designs und seiner verbesserten Eigenschaften ist diese ALD-Kammer für eine einheitliche und konsistente ALD-Filmabscheidung optimiert.
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