Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Centura 200 EPI #9384326 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura 200 EPI (Epitaxial Process Integration) Equipment ist ein vakuumbasierter Bearbeitungsreaktor auf Waferebene zur epitaktischen Abscheidung von Schichten auf Halbleiterscheiben. Dieser Waferherstellungsreaktor wurde speziell entwickelt, um die Leistung, Zuverlässigkeit und den Durchsatz für dielektrische Filme, Metallfilme und Verbundhalbleitermaterialien (wie Galliumarsenid, Aluminiumgalliumarsenid und Verbindungen auf Indiumbasis) zu erhöhen. Es eignet sich für eine Vielzahl von Branchen, darunter Mikroelektronik, Optoelektronik, Telekommunikation und Bioelektronik. Das System wurde entwickelt, um die Schwierigkeiten der Aufrechterhaltung hoher Wachstumsraten unter Beibehaltung einer gleichmäßigen Verteilung des abgelagerten Materials zu überwinden. Das Verfahren bietet Unterstützung für mehrere Schichten aus Polysilizium und Siliziumdioxid und bietet die Fähigkeit für das Wachstum von ultradünnen Schichten und Multiorientierung epitaktischen Operationen. Es bietet auch Hochtemperatur-thermische Verarbeitungsmöglichkeiten, wie Glühen und Kanalisieren. AMAT Centura 200 EPI verwendet eine Hochfrequenz (HF) -Anregungsquelle, um Wachstumsraten mit hohem Durchsatz zu erzielen. Die Einheit verwendet eine einwandige zylindrische Heizkammer, in der mehrere kleine indirekte Plasmageneratoren ein gleichmäßiges elektrisches Feld entlang der Richtung der Kammer erzeugen. Das gleichmäßige elektrische Feld und die hocheffiziente HF-Kopplung machen APPLIED MATERIALS Centura 200 EPI sowohl für Tieftemperatur- als auch Hochtemperaturprozesse geeignet. Die Maschine ist auch hinsichtlich des Energieverbrauchs hocheffizient und kann bei hoher Abscheidungsselektivität geringe Keimdichten erzielen. Mit der angeschlossenen Software-Steuerung können Schichtgleichmäßigkeit und -stabilität bei sehr geringer Nebenproduktbildung erreicht werden. Darüber hinaus kann Centura 200 EPI mit anderen Abscheidungssystemen in einer Clusterkonfiguration für Substrate hoher Dichte kombiniert werden. Das Tool ist mit einer modularen Architektur konzipiert, die Automatisierungsoptionen ermöglicht, einschließlich roboterbasierter Wafer-Handhabung. Es ist in einem kompakten und robusten Gehäuse verpackt und eignet sich somit für die Integration in Reinraum-Workflows. AMAT/APPLIED MATERIALS Centura 200 EPI wird von einer robusten Vakuumanlage angetrieben und bietet volle Kontrolle über Wafertemperatur und Prozessparameter. Insgesamt bietet das AMAT Centura 200 EPI-Modell eine hochzuverlässige epitaktische Abscheidungslösung, die für eine Vielzahl von Anwendungen geeignet ist. Der effiziente Energieverbrauch und die modulare Architektur machen es zur idealen Wahl für Gerätehersteller, die zuverlässige und konstante Leistung benötigen.