Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Centura 4.0 Radiance #9072172 zu verkaufen
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Verkauft
ID: 9072172
Wafergröße: 12"
Weinlese: 2003
Platform RTP system, 12"
Chambers: A, B, D:
Chamber type: Radiance RTP
Lamp HTR
N2; PRCS/BTM/MAGLEV: 50/50/100slm
O2; PRCS 50/10slm, He: 50slm
Modifications:
CH-A.B.D Oximeter additional, Oxygen concentration monitoring
CH-A.B.D OLT additional functions, Remodeling the lamp annealing specification
Missing parts:
Slit Assy(Ch-A), 0010-03057
Slit Assy(Ch-B), 0010-03057
VHP Robot(Buffer), 0242-30245
Lamp head cooling water IN side hose (Ch-D)
Wafer suppor cylinder buttons (Ch-A)
FI Robot(FI), 0190-10300
APC (Ch-A), 0500-01147
Bu robot driver (Buffer), 0190-08277
RTC CPU Board (Ch-A,B,D), 0190-28454
FI Robot (FI), 0190-10300
ipump (LLK), 0190-27340
Maglev Controller (Ch-D), 0190-24282
Currently in storage
2003 vintage.
AMAT Centura 4.0 Radiance Reactor ist eine Halbleiterverarbeitungsanlage, die hohe Durchsatzleistung nutzt, um optimale Leistung zu liefern. Es ist ein 4-Kammer-CVD-System, das Substrate mit einem Durchmesser von bis zu 200 mm verarbeiten kann. Mit seiner hohen Stabilität, Zuverlässigkeit und Skalierbarkeit erfüllt der Centura 4.0 Radiance Reactor die Anforderungen der anspruchsvollsten Herausforderungen der Halbleiterindustrie. Die vier Kammern des Centura 4.0 Radiance Reactor sind für verschiedene Anwendungen optimiert, darunter Diffusion, Ätz- und chemische Dampfabscheidung. Jede Kammer ist in der Lage, große Gasmengen bis zu 4,2 std L/min zu pumpen, was eine hocheffiziente Verarbeitung bei gleichmäßigem Durchfluss und konstantem Druck ermöglicht. Es verfügt auch über eine fortschrittliche Temperaturregeleinheit, die Temperaturen bis zu 150 ° C oder bis zu 1000 ° C halten kann und eine breite Palette von Prozessanforderungen bietet. Darüber hinaus sorgen der Einsatz verbesserter Gas-Handling-Komponenten und die Fernüberwachung für eine einheitliche Prozesssteuerung über alle Kammern hinweg. Die Kammerwände bestehen aus Quarz, und die Innenflächen werden mit Nickel behandelt, um langfristige Stabilität zu gewährleisten und Verschmutzungen zu verhindern. Außerdem verfügt die Maschine über ein berührungsloses Antriebswerkzeug, das Ersatzteile wie Bürsten und Lager überflüssig macht, was die Vermögenssicherheit weiter erhöht. Darüber hinaus bietet die hohe Durchsatzfähigkeit, die sich aus der Kombination von vier Kammern und einem hocheffizienten Prozessgasliefermodell ergibt, maximale Durchsatzleistung bei gleichzeitiger Minimierung der Gesamtprozesskosten. Der Centura 4.0 Radiance Reactor bietet eine Reihe von Sicherheitsmerkmalen, wie eine automatisierte Zündanlage, eine mechanische Kammerverriegelung für mehr Sicherheit und ein gut konzipiertes Lüftungssystem, das große Abgasmengen erfolgreich und schnell evakuieren kann. Darüber hinaus ist das Gerät so konzipiert, dass es den Sicherheitsstandards der Industrie, einschließlich SEMI S94 und NFPA und ATEX-Anforderungen, entspricht. Der Centura 4.0 Radiance Reactor ist die perfekte Wahl für eine breite Palette fortschrittlicher Halbleiteranwendungen. Die Kombination aus zuverlässiger Hochdurchsatzfähigkeit, Skalierbarkeit und exzellenter Prozesskontrolle macht es zu einer idealen Wahl für Hersteller in dieser schnell wachsenden Branche.
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