Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Centura 5000 #9373103 zu verkaufen

AMAT / APPLIED MATERIALS Centura 5000
ID: 9373103
Wafergröße: 2"-6"
CVD System, 2"-6" ICP 3 Channels.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura 5000 ist ein Hochleistungs-Abscheide- und Ätzreaktor für den Einsatz in der Halbleiterherstellung. Es ist ideal für die Herstellung von High-End-erweiterten Halbleiterbauelementen und -komponenten, einschließlich Speicherchips, Logik-ICs, Solarzellen und Displays. Dieser Reaktor nutzt ultrahochvakuumtechnologie, die überlegene Verarbeitungsgenauigkeit und Wiederholbarkeit ermöglicht. AMAT Centura 5000 bietet fortschrittliche Funktionen zur Prozesskontrolle und Qualitätssicherung, die ertragreiche und qualitativ hochwertige Ergebnisse liefern. Durch präzise Temperatur-, Zeit- und Druckkontrolle ist es in der Lage, jedes Mal konsistente und wiederholbare Ergebnisse zu erzielen, so dass Benutzer Komponenten in einem hochpräzisen und effizienten Maßstab herstellen können. Mit der AMAT MagneLink Steuerung kann die APPLIED MATERIALS Centura 5000 Prozessergebnisse in Echtzeit analysieren und auf optimale Ergebnisse einstellen. Neben Prozesskontrolle und Qualitätssicherung bietet die Centura 5000 auch eine breite Palette von Materiallösungen. Sein PECVD (Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition) System fügt Materialien auf atomarer Ebene hinzu, die eine überlegene Gleichmäßigkeit und Materialintegrität ermöglichen. Seine schnellen thermischen Verarbeitungsmöglichkeiten ermöglichen eine schnelle atomare Schichtabscheidung von Materialien mit beispielloser Genauigkeit und Präzision. Sein reaktives Ionenätzsystem ermöglicht auch eine hochtreue Entfernung von Materialien aus Strukturen, so dass es eine ideale Wahl für die Konstruktion von empfindlichen und komplizierten Eigenschaften ist. Der Reaktor verfügt auch über fortschrittliche Lösungen für die Handhabung von Substraten, die eine effiziente Handhabung von Wafern und Oberflächen höchsten Kalibers ermöglichen. Insgesamt ist AMAT/APPLIED MATERIALS Centura 5000 ein fortschrittlicher Abscheide- und Ätzreaktor, der für Halbleiterherstellungsanwendungen entwickelt wurde. Es verfügt über eine Vielzahl von Eigenschaften, die es ermöglichen, hohe Erträge zu produzieren und eine ausgezeichnete Präzision und Wiederholbarkeit zu erhalten. Seine PECVD, schnelle thermische Verarbeitung, reaktive Ionenätz- und Substrathandhabungslösungen sind ganz oben auf der Linie, so dass es eine ideale Wahl bei der Herstellung von Komponenten von höchster Qualität.
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