Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Centura 5200 ACP / EPI #160377 zu verkaufen
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Verkauft
ID: 160377
Wafergröße: 12"
Weinlese: 2007
Systems, 12"
Application: CMOS EG Elevated source drain
(4) Chambers: (RH3) Reduced pressure EPI
RP Chambers:
Recipe control AssuSETT: Yes
Lamp type: USHIO BNA6
Susceptor type: Silicon carbide coated graphite
Pin type: Hollow silicon carbide coated graphite
Preheat ring: Slotted silicon carbide, coated graphite
Susceptor support shaft: Centerpost
Upper heat shield: 6 Deg flared-in upper outer
Gas delivery options:
Gas panel feed: Bottom
MFC type: STEC Z500
Pump purge: yes
Regulators and displays: Transducers and regulators
Transducer display type: English (PSI)
H2 leak detector: Yes
Gas pallets:
Slot 1: H2 Main 50 SLM normally open
Slot 2: H2 SLIT 10 SLM normally open
Slot 4 MFC: HCI Wafer clean 200 sccm
Slot 4 Restrictor: HCI Chamber clean 15 SLM restrictor
Slot 5: HCI 20 SLM
Slot 8: DCS 300 sccm
Slot 9: DCS 1 SLM MLD
Mainframe:
Mainframe type: Core ENP block 2
Loadlocks: Batch load lock
Chamber interface: Vented stainless steel insert and door with viton
DVR record license:Yes
Water hose fittings: Yes
Chamber common and integration:
Mass flow verification: MFV for 4 Chamber system
Multi wafer clean: MWC for 4 chamber system
Factory interface options:
WIP delivery type: OHT WIP delivery
Number of load ports: 2 load ports
eDiagnostics ready: Yes
Load port types: Enhanced 25 wafer FOUP V2
Load port operator interface: Standard 8 light
Configurable colored lights: Yes
Air intake system: Top intake
E84 Carrier handoff: Upper E84 interface enabled OHT
E84 PIO Sensors and cables: Upper E84 sensors and cables
E99 Carrier ID: Keyence with BCR
Operator access switch: Yes
Light towers: 4 Color configurable light tower
Platform application: EPI ACP block 2
Remote options:
Monitor 1: 17" Flat panel with keyboard on ergo arm
Monitor 2: Remote 17" flat panel on stand
Monitor 2 Cable: 50 feet with 41 feet effective
Pumps:
Process chamber pumps: Edwards IH1000 pump interface only
Pump isolation valve: Yes
Currently powered off
2007 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura 5200 ACP/EPI ist ein Werkzeug, das in Halbleiterherstellungsprozessen zur Herstellung von hochwertigen integrierten Schaltungen und Waferverpackungen verwendet wird. Es ist ein fortschrittlicher Abscheide- und Ätzreaktor, der die an den modernen fortschrittlichen Knoten erforderliche Einheitlichkeit, Wiederholbarkeit und Prozessgenauigkeit liefert. AMAT Centura 5200 ACP/EPI bietet eine optimale Plattform für fortschrittliche Materialabscheidungs- und Ätzprozesse. Es handelt sich um ein Einwafer-Lastschlosssystem mit separater Ätzkammer für Trockenätzprozesse. Dies ermöglicht die Inline-Abscheidung und Ätzung statt sequentiell mit einem separaten Werkzeug für jeden Prozessschritt. Das Werkzeug eignet sich auch hervorragend für Passivierungsprozesse auf Waferebene. ANGEWANDTE MATERIALIEN Centura 5200 ACP/EPI enthält einen modularen Substrat-Wendestab, der die Waferorientierung für ein gleichmäßiges Ätzen unterstützt. Dieses Konstruktionsmerkmal bietet im Vergleich zu herkömmlichen Werkzeugen eine verbesserte Wiederholbarkeit und Prozessgleichförmigkeit. Centura 5200 ACP/EPI verfügt zudem über einen leistungsstarken Robot Handler mit einer uni-direktionalen Übertragungsmethode. Diese Funktion gewährleistet eine genaue Ausrichtung und sichere Handhabung von Substraten bei der Übertragung zwischen den Prozessmodulen. AMAT/APPLIED MATERIALS Centura 5200 ACP/EPI bietet ein verbessertes Prozesskammerdesign mit verbesserter Plasmagleichförmigkeit, Wiederholbarkeit und Durchsatz. Das Plasma wird sowohl mit Elektronenzyklotronresonanz (ECR) als auch mit induktiv gekoppelten Plasmaquellen (ICP) erzeugt. Es verfügt auch über einen Hochfrequenz (RF) Stromgenerator, der es dem Benutzer ermöglicht, Leistungspegel schnell und genau einzustellen. Der Anwender kann auch Druckniveaus einstellen und eine Kristallquarzfenstertemperatur-Sonde ermöglicht die Inspektion und Überwachung von Prozesstemperaturen. AMAT Centura 5200 ACP/EPI bietet Technologie und Leistung, die die Herstellung hochmoderner integrierter Schaltungen und komplexer Wafer-Level-Pakete ermöglichen. Seine hervorragende Abscheidung und Ätzgleichmäßigkeit erfüllt die anspruchsvollen Prozessanforderungen auf den neuesten fortschrittlichen Knoten. Das fortschrittliche Design des Werkzeugs sorgt für optimalen Substrattransport und -handling sowie bestmögliche Wiederholbarkeit und Prozessgenauigkeit. Mit Funktionen wie HF-Stromgenerator, Druckregelung, Temperaturfühler und modularem Wendebalken ist APPLIED MATERIALS CENTURA 5200 ACP/EPI ein effektives Werkzeug, um die höchstmögliche Leistung für fortschrittliche Halbleiterherstellungsprozesse zu erzielen.
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