Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Centura 5200 ACP / EPI #160377 zu verkaufen

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ID: 160377
Wafergröße: 12"
Weinlese: 2007
Systems, 12" Application: CMOS EG Elevated source drain (4) Chambers: (RH3) Reduced pressure EPI RP Chambers: Recipe control AssuSETT: Yes Lamp type: USHIO BNA6 Susceptor type: Silicon carbide coated graphite Pin type: Hollow silicon carbide coated graphite Preheat ring: Slotted silicon carbide, coated graphite Susceptor support shaft: Centerpost Upper heat shield: 6 Deg flared-in upper outer Gas delivery options: Gas panel feed: Bottom MFC type: STEC Z500 Pump purge: yes Regulators and displays: Transducers and regulators Transducer display type: English (PSI) H2 leak detector: Yes Gas pallets: Slot 1: H2 Main 50 SLM normally open Slot 2: H2 SLIT 10 SLM normally open Slot 4 MFC: HCI Wafer clean 200 sccm Slot 4 Restrictor: HCI Chamber clean 15 SLM restrictor Slot 5: HCI 20 SLM Slot 8: DCS 300 sccm Slot 9: DCS 1 SLM MLD Mainframe: Mainframe type: Core ENP block 2 Loadlocks: Batch load lock Chamber interface: Vented stainless steel insert and door with viton DVR record license:Yes Water hose fittings: Yes Chamber common and integration: Mass flow verification: MFV for 4 Chamber system Multi wafer clean: MWC for 4 chamber system Factory interface options: WIP delivery type: OHT WIP delivery Number of load ports: 2 load ports eDiagnostics ready: Yes Load port types: Enhanced 25 wafer FOUP V2 Load port operator interface: Standard 8 light Configurable colored lights: Yes Air intake system: Top intake E84 Carrier handoff: Upper E84 interface enabled OHT E84 PIO Sensors and cables: Upper E84 sensors and cables E99 Carrier ID: Keyence with BCR Operator access switch: Yes Light towers: 4 Color configurable light tower Platform application: EPI ACP block 2 Remote options: Monitor 1: 17" Flat panel with keyboard on ergo arm Monitor 2: Remote 17" flat panel on stand Monitor 2 Cable: 50 feet with 41 feet effective Pumps: Process chamber pumps: Edwards IH1000 pump interface only Pump isolation valve: Yes Currently powered off 2007 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura 5200 ACP/EPI ist ein Werkzeug, das in Halbleiterherstellungsprozessen zur Herstellung von hochwertigen integrierten Schaltungen und Waferverpackungen verwendet wird. Es ist ein fortschrittlicher Abscheide- und Ätzreaktor, der die an den modernen fortschrittlichen Knoten erforderliche Einheitlichkeit, Wiederholbarkeit und Prozessgenauigkeit liefert. AMAT Centura 5200 ACP/EPI bietet eine optimale Plattform für fortschrittliche Materialabscheidungs- und Ätzprozesse. Es handelt sich um ein Einwafer-Lastschlosssystem mit separater Ätzkammer für Trockenätzprozesse. Dies ermöglicht die Inline-Abscheidung und Ätzung statt sequentiell mit einem separaten Werkzeug für jeden Prozessschritt. Das Werkzeug eignet sich auch hervorragend für Passivierungsprozesse auf Waferebene. ANGEWANDTE MATERIALIEN Centura 5200 ACP/EPI enthält einen modularen Substrat-Wendestab, der die Waferorientierung für ein gleichmäßiges Ätzen unterstützt. Dieses Konstruktionsmerkmal bietet im Vergleich zu herkömmlichen Werkzeugen eine verbesserte Wiederholbarkeit und Prozessgleichförmigkeit. Centura 5200 ACP/EPI verfügt zudem über einen leistungsstarken Robot Handler mit einer uni-direktionalen Übertragungsmethode. Diese Funktion gewährleistet eine genaue Ausrichtung und sichere Handhabung von Substraten bei der Übertragung zwischen den Prozessmodulen. AMAT/APPLIED MATERIALS Centura 5200 ACP/EPI bietet ein verbessertes Prozesskammerdesign mit verbesserter Plasmagleichförmigkeit, Wiederholbarkeit und Durchsatz. Das Plasma wird sowohl mit Elektronenzyklotronresonanz (ECR) als auch mit induktiv gekoppelten Plasmaquellen (ICP) erzeugt. Es verfügt auch über einen Hochfrequenz (RF) Stromgenerator, der es dem Benutzer ermöglicht, Leistungspegel schnell und genau einzustellen. Der Anwender kann auch Druckniveaus einstellen und eine Kristallquarzfenstertemperatur-Sonde ermöglicht die Inspektion und Überwachung von Prozesstemperaturen. AMAT Centura 5200 ACP/EPI bietet Technologie und Leistung, die die Herstellung hochmoderner integrierter Schaltungen und komplexer Wafer-Level-Pakete ermöglichen. Seine hervorragende Abscheidung und Ätzgleichmäßigkeit erfüllt die anspruchsvollen Prozessanforderungen auf den neuesten fortschrittlichen Knoten. Das fortschrittliche Design des Werkzeugs sorgt für optimalen Substrattransport und -handling sowie bestmögliche Wiederholbarkeit und Prozessgenauigkeit. Mit Funktionen wie HF-Stromgenerator, Druckregelung, Temperaturfühler und modularem Wendebalken ist APPLIED MATERIALS CENTURA 5200 ACP/EPI ein effektives Werkzeug, um die höchstmögliche Leistung für fortschrittliche Halbleiterherstellungsprozesse zu erzielen.
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