Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Centura 5200 DLH #9184768 zu verkaufen

AMAT / APPLIED MATERIALS Centura 5200 DLH
ID: 9184768
CVD System Buffer chamber Cooldown chamber with NBLL HP Robot AC Rack RF Generator rack Heat exchanger Miscellanous parts.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura 5200 DLH ist ein Mehrkammer-Zweispurreaktor mit induktiv gekoppeltem Plasma (ICP), der in der Halbleiterherstellung verwendet wird. Entwickelt mit optimierter Produktivität und Einzelwaferdurchsatz bis zu 2x75mm bei 200-300mm/Minute, bietet diese Ausrüstung robuste Leistung unter einer Vielzahl von Prozessbedingungen. Die Anlagenkonstruktion verwendet eine Zweikammerkonfiguration, wobei die beiden Kammern nebeneinander aufgebaut sind. Die erste Kammer beherbergt neben Plasmakammer und Plasmaquelle die Source und Hochspannungsversorgung. Die untere Kammer enthält einen chemisch-mechanischen Poliertisch (CMP), einen Endeffektor und andere Bewegungskomponenten. Eine zentrale Computerschnittstelle verwaltet die Automatisierungs- und Prozessrezepte. Das Gerät ist mit einer intuitiven Touchscreen-basierten Benutzeroberfläche für eine einfache und präzise Konfiguration und Steuerung ausgestattet. Der Reaktor umfasst hochmoderne Plasmaquellen, die mit fortschrittlicher ICP-Technologie für hohe Abscheidungsrate und Gleichmäßigkeit gebaut wurden. Sie kann sowohl für Flüssigkeits- als auch für Gasfördersysteme mit einer speziellen Gasfördermaschine in der ersten Kammer ausgebildet sein. Die Prozesskammer ist mit einem robusten Keramikkern und einem präzisen dielektrischen Fenster ausgestattet. Es ist so konzipiert, dass es großen Prozessdrücken standhält und eine hohe Selektivität aufrechterhält. Um eine präzise Steuerung und Wiederholbarkeit zu gewährleisten, hat das Werkzeug eine HF-Frequenzanfälligkeit von bis zu 2MHz, zusätzlich zur Frequenz- und DC-Vorspannungsregelung mit Übergeschwindigkeit 4MHz Frequenz. AMAT Centura 5200 DLH ist in der Lage, dielektrische Folien und Hartmaskenfolien, so dass es ideal für eine breite Palette von Anwendungen. Es bietet auch die Flexibilität der Backside-Verarbeitung, die Durchsilizium über die Verarbeitung ermöglicht. Die Anlage ist sowohl für Chargen- als auch Einzelwaferprozesse mit entsprechender Waferbootrotation und anderen automatisierten Operationen konzipiert. Insgesamt ist APPLIED MATERIALS Centura 5200 DLH ein sehr vielseitiger Reaktor mit hohem Durchsatz und ausgezeichneter Gleichmäßigkeit für eine Vielzahl von Prozessbedingungen. Mit seinem Mehrkammerdesign, fortschrittlicher ICP-Technologie und intuitiver Benutzeroberfläche ist es ideal für die Herstellung empfindlicher integrierter Schaltungen.
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