Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Centura 5200 DLH #9200051 zu verkaufen

AMAT / APPLIED MATERIALS Centura 5200 DLH
ID: 9200051
Wafergröße: 6"-8"
CVD System, 6"-8".
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura 5200 DLH (Deep Leveraged High-Aspect-Ratio) Reaktor ist ein hochmodernes Photolithographie-Tool, das Schaltungen und Komponenten der nächsten Generation für eine Vielzahl von Märkten herstellen kann. Dieses Werkzeug wird in der Halbleiter- und Elektronikindustrie für Ätz-, Abscheide- und Photomaskenprozesse eingesetzt. AMAT Centura 5200 DLH kombiniert mehrere fortschrittliche Technologien wie tiefe Ultraviolett- (DUV) Lithographie, elektrostatisches und chemisch-mechanisches Polieren (CMP), Abscheidung und High-Aspect-Ratio-Ätzen in einem hochmodernen Reaktor. Das Werkzeug ist für eine Funktionsgröße von 70nm ausgelegt und kann erweiterte Schaltungen mit den kleinsten möglichen Merkmalen herstellen. Es ist ein agiles Produktionswerkzeug, das Maskenwechsel schnell aufnimmt und schnellere Turnarounds ermöglicht. Die DLH-Integration nutzt fortschrittliche Bildgebungstechnologie mit einem Leistungsniveau, das größer als die Vorgänger ist und die Herstellung überlegener Präzisionsprodukte ermöglicht. Die einzigartige Deep-Leveraged-Ätztechnologie sorgt auch bei niedrigen Betriebsdrücken für optimale Ätzgleichmäßigkeit und kritische Seitenverhältnisse. Dies ermöglicht die Herstellung von Bauteilen mit hohen Seitenverhältnissen und sehr engen Toleranzen. Der Ätzprozess wird mit automatisierten Best Recipe Algorithmen gesteuert und überwacht, die Ätzraten und Selektivität optimieren. Die elektrostatischen und CMP-Technologien dienen der besseren Prozesskontrolle, Gleichmäßigkeit und Präzision. Die in APPLIED MATERIALS Centura 5200 DLH verwendete tiefe ultraviolette (DUV) Lithographie bietet eine überlegene Auflösung gegenüber ihren Vorgängern. Es arbeitet mit einer extrem kurzen Wellenlänge, um kompliziertere und präzisere polymere Strukturen herzustellen. Das System kann hochauflösende Masken mit Belichtungszeiten von bis zu 2 Sekunden erzeugen. Das im Werkzeug verwendete Plasmaabscheidungsverfahren ist hocheffizient und ermöglicht eine gleichmäßige Materialabscheidung. Die präzise Luftlagerbewegungs-Steuerplattform und die fortschrittliche Ausrichtungstechnologie führen zu überlegener Prozesssteuerung und Positionsgenauigkeit. Centura 5200 DLH ist eine ideale Wahl für Serienumgebungen. Seine fortschrittlichen Technologien bieten höhere Erträge, besseren Durchsatz und überlegene Produktqualität. Mit Energy Star-zertifizierten Komponenten ist dieses Tool ebenfalls sehr energieeffizient. Schließlich ist AMAT/APPLIED MATERIALS Centura 5200 DLH ein fortschrittliches Photolithographie-Tool, das Präzisionsprodukte mit überlegener Genauigkeit, Gleichmäßigkeit und Durchsatz herstellt.
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