Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Centura 5200 DPS R1 #171348 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura 5200 DPS R1 Reaktor ist ein Hochdurchsatz chemische Dampfabscheidung (CVD) Ausrüstung für die Halbleiterherstellung entwickelt. Es bietet eine breite Palette von Funktionen, so dass es eine ideale Wahl für eine Vielzahl von Anwendungen. Die verbesserte Prozesskontrolle dieses Systems gewährleistet gleichbleibend hochwertige Ablagerungen, die frei von überschüssigem Material sind, was höhere Erträge und eine verkürzte Markteinführungszeit ermöglicht. AMAT Centura 5200 DPS R1 bietet ein Mehrzonenreaktordesign und automatisierte Steuerungssysteme mit hoher Flexibilität. Dies ermöglicht eine präzise Steuerung des Gasflusses und der thermischen Abscheidung während der Prozessläufe. Darüber hinaus verfügt das Gerät über ein Multi-Düsen-Design mit unabhängiger Gassteuerung, die den Prozess von kleinen oder großen Flächen mit minimalen Einschränkungen ermöglicht. Die Maschine bietet auch einen Hochtemperaturofen, der Temperaturen bis zu 1400 ° C erreichen kann. Dies ermöglicht eine hervorragende thermische Gleichmäßigkeit und eine hocheffiziente Verarbeitung jedes Materials. Das Tool ermöglicht auch die In-situ-Überwachung und Steuerung des Abscheideprozesses mit ausgeklügelter Embedded-Software. Dies bietet eine wesentlich höhere Kontrolle und Genauigkeit des Hochleistungs-CVD-Prozesses. ANGEWANDTE MATERIALIEN Die Centura 5200 DPS R1 verfügt auch über eine erweiterte Datenverwaltung für die Verfolgung, Archivierung und Analyse der Ergebnisse. Das Modell verfügt außerdem über ein 10-Kammerlast-Design, das eine reduzierte Ausrüstungszykluszeit und geringere Betriebskosten ermöglicht. Schließlich kommt dieses System mit einer innovativen Durchflusssteuerung, die die Flexibilität bietet, Gasströme fein abzustimmen, ohne dass komplizierte Absperrventile erforderlich sind. Abschließend bietet die Centura 5200 DPS R1 eine Kombination aus Funktionen und Flexibilität, die von anderen CVD-Systemen unübertroffen ist. Seine fortschrittlichen Technologien machen es zu einer idealen Lösung für hocheffiziente und qualitativ hochwertige CVD-Prozesse in einer Vielzahl von Anwendungen. Seine Fähigkeit, den Gasfluss, die thermische Energie und die Prozessdaten genau zu steuern, bietet Leistung und Genauigkeit, die beispiellos ist.