Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Centura 5200 DPS R1 #9099752 zu verkaufen
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Verkauft
ID: 9099752
Wafergröße: 8"
Weinlese: 1998
Metal etcher, 8"
Wafer type: 8" SNNF
(2) DPS R1 metal chambers
(2) ASP+ chambers
(1) Orienter
(1) Cool down
Load Locks: wide body with auto-rotation
Robot: VHP+
Platform type: Etch Centura Phase II
SMIF: not available
RF rack, GMW25
Chamber A & B: DPS R1 Metal
Single cathode
Turbo pump: Seiko Seiki STP-H1303
Upper chamber body: Y2O3 coating
Electrostatic chuck type: polymide ESC
Upper chamber o-ring: Viton
Dome and EDTCU: R1 DTCU
Endpoint type: monochromator
Bias generator: ACG 6B
Bias match: STD
Capture ring: STD polymide ESC
Source generator: STD 2500W
Slit valve o-ring: Viton
Throttle Gate Valve: TGV VAT65
Chamber C & D: APS+
Process kit: chuck
O-ring: silicon
Process control: manometer
Slit valve o-ring: Viton
Plasma tube o-ring: Kalrez
Microwave
Smart match
Magnetron head
Applicator
VDS assembly
Chamber E: STD cool down
Chamber F: orienter
Gas Panel: control VME 1
Controller: Centura common rack
Generator rack: 84" rack
Line frequency: 50Hz
Loadlock / Cassette:
Loadlock type: WBLL with auto-rotation
Loadlock platform: universal
Cassette type supported: KA200 85MTRHS 47C02
Loadlock cover finish: anti-static painted
Loadlock slit valve o-ring type: Viton
Wafer mapping: enhanced
Integrated cassette sensor: yes
Transfer Chamber:
Manual lid hoist: yes
Robot type: Centura VHP+
Robot blade option: roughened Al blade
Wafer on blade detector: basic
Loadlock vent: bottom
Signal Light Tower: 3-color, front panel
Top light color: red
Second light color: yellow
Third light color: green
Light tower buzzer: disabled
Endpoint:
Mounting: stand alone
Cart: 56" tall, painted
Monochromators: (2)
Total Endpoints: (2)
System Controller:
Standard GEM interface: yes
Controller type: 84" common controller
Electrical interface: bottom feed
Exhaust: top
System Monitors:
Type: CRT
Monitor 1: stand alone
Cables: 25'
AC Rack:
GFI: 30mA
Type: 84"
Controller facility interface: remote UPS interface only
Generator Rack:
Cooling water: water manifold
Manifold facilities: 3/4" compression tube fittings
Gas Delivery Options:
Vapor Delivery System (VDS): Ultra Clean
Component selection: premium
Valve: Fujikin
Transducer: Millipore
Regulator: Veriflo
Filter: Millipore
Transducer displays: (1) display per stick
MFC type: Unit 8160
Gas Panel Pallet: A/B
Gas Line Requirement: 4/6
Gas Line Configuration:
Line 1 Gas CL2 MFC Size 200 SCCM
Line 2 Gas BCL3 MFC Size 100 SCCM
Line 5 Gas N2 MFC Size 20 SCCM
Line 6 Gas EMPTY MFC Size EMPTY
Line 7 Gas CHF3 MFC Size 20 SCCM
Line 8 Gas O2 MFC Size 500 SCCM
Line 9 Gas SF6 MFC Size 200 SCCM
Line 10 Gas AR-S MFC Size 200 SCCM
Pallet Corrosive Gas Lines: (2)
Pallet Inert Gas Lines: (5)
Filters: (7)
Gas Panel Pallet C/D:
Gas Line Requirement: 0/4
Gas Line Configuration:
Line 3 Gas O2 MFC Size 5 SLM
Line 4 Gas N2-S MFC Size 1 SLM
Line 5 Gas VDS MFC Size 750 sccm
Pallet Inert Gas Lines: (3)
Filters: (3)
Gas panel facilities hook-up: top feed, multi-line drop
Gas panel exhaust: BD chamber side top
Gas panel controller: VME
Safety:
EMO switch: turn to release, ETI compliant
EMO guard ring: included
Smoke detector at controller: yes
Smoke detector at MF no skin: yes
50 Hz
1998 vintage.
AMAT / APPLIED MATERIALS Centura 5200 DPS R1 ist eine starke für die epitaxiale Hochleistungsschichtenabsetzung entworfene Mehrmodulproduktionsplattform. Dieser Reaktor wurde entwickelt, um hochwertige Materialien mit geringen Defektdichten herzustellen und ermöglicht die Herstellung komplexer und optoelektronischer Geräte der nächsten Generation. AMAT Centura 5200 DPS R1 integriert Multi-Module-Technologie, fortschrittliche Oberflächenanalysetechniken und vielseitige Abscheidetechniken in einer einzigen Plattform. Die Ausrüstung besteht aus Großrechner, Hutch, Prozesskammer und einer Ladeschloss, um Prozesssicherheit und Gleichmäßigkeit zu erreichen. Die mitgelieferten Module sind Steuerungssystem, Stromversorgung, Gaskrümmer, Ionenquelle, Turbomolekularpumpe, Druckregler und Erodierquelle. Das Mainframe integriert Quell-, Kammer- und kritische Komponenten, um eine gleichmäßige Verteilung der Quelle über den Wafer zu ermöglichen. Das Steuergerät verfügt über rezeptgesteuerte Prozesse mit einer kompletten Palette von Überwachungs- und Steuerungsfunktionen. Die Maschine enthält auch fortschrittliche Oberflächenanalysetechniken, um die Prozessgenauigkeit zu gewährleisten und gleichzeitig erfolgreiche Ergebnisse zu erzielen. ANGEWANDTE MATERIALIEN Centura 5200 DPS R1 ist mit anspruchsvoller Datenerfassungs- und Prozesssteuerungssoftware ausgestattet, um einen effizienten Werkzeugbetrieb zu ermöglichen. Diese Software ist mit den mehreren Komponenten im Asset verknüpft und kann unter anderem zur Überwachung und Steuerung von Parametern wie Wafertemperatur, reaktiver Gasströmung, Druck und reaktiver Gasverteilung verwendet werden. Die Kammer dieses Reaktors ist thermisch und mechanisch stabil, was eine präzise Prozesswiederholbarkeit und Gleichmäßigkeit ermöglicht. Centura 5200 DPS R1 bietet sowohl Trockenätz- als auch Ionen-Implantat-Funktionen, was eine höhere Flexibilität und größere Anwendungen ermöglicht. Die Vielseitigkeit des Verfahrens wird ferner durch die Einbeziehung einer Vielzahl von Abscheidungstechniken, wie Metall Organic Chemical Vapor Deposition (MOCVD) und Atomic Layer Deposition (ALD), unterstützt. Insgesamt ist AMAT/APPLIED MATERIALS Centura 5200 DPS R1 eine fortschrittliche Produktionsplattform, ideal für die Erstellung von optoelektronischen Geräten mit Hochleistungseigenschaften und geringen Fehlerdichten. Es bietet vielseitige Abscheidefunktionen mit fortschrittlichen Oberflächenanalysetechniken, um Gleichmäßigkeit und Wiederholbarkeit der Prozesse zu erreichen. Mit diesem robusten Modell können Anwender komplexe und komplizierte Geräte und Materialien herstellen.
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