Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Centura 5200 DxZ #79721 zu verkaufen

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AMAT / APPLIED MATERIALS Centura 5200 DxZ
Verkauft
ID: 79721
Wafergröße: 8"
Weinlese: 2001
SACVD BPSG system, 8" notch SMIF (Jenoptik) Wide body load locks Manual lid hoist HP Robot CH A, B, C, D – SACVD DxZ Aluminum heater Direct drive throttle valve PLIS (Doped) AE RFG 2000-2V Gasses (STEC MFCs) O2 15 SLM NF3 100 sccm C2F6 1 SLM O-zone 10 SLM N2 10 SLM He 3 SLM TEOS TEB TEPO Seriplex Gas Control CH E – Multi slot cool down Bottom feed exhaust Facilities bottom feed OTF Centerfind Synergy V452 Radisys AMAT 486 2001 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura 5200 DxZ ist ein PECVD (plasma-enhanced chemical vapor deposition) Reaktor für die Abscheidung von dielektrischen und anderen fortschrittlichen Materialien gebaut. Es verfügt über eine große einstellbare Prozesszone dynamisch optimiert, um den Druckausgleich und die Gleichmäßigkeit zu maximieren. AMAT Centura 5200 DxZ bietet mit seinem hohen Durchsatz, seinem geringen thermischen Budget und seinem robusten Design eine optimale Leistung bei der Abscheidung unterschiedlichster Materialien. ANGEWANDTE MATERIALIEN Centura 5200 DxZ verfügt über ein dreizoniges, verallgemeinertes Prozesskammerdesign. Mit seinem geräumigen Volumen können bis zu neun Wafer gleichzeitig bearbeitet werden. Die Konstruktion wird durch einen leistungsstarken Auspuff unterstützt, der Reaktions-Nebenprodukte schnell entfernt, um optimale Prozessbedingungen zu erhalten. Centura 5200 DxZ hat auch eine Option für niedrige Temperatur Wafer Heizung für mehr Gleichmäßigkeit. AMAT/APPLIED MATERIALS Centura 5200 DxZ ist in der Lage, Halbleitermaterialien aus einer Vielzahl von Quellen abzuscheiden. Dazu gehören Prozesskomponenten wie Siliziumhydrid, Silane, TEOS und Chlorsilane. Der Reaktor verwendet auch herkömmliche PVD, ultrahohe Reinheit und niedrige thermische Budgettechniken für maximale Prozesskompatibilität. Darüber hinaus werden optisch dicke Folien durch eine enge Steuerung der Abscheideleistung erleichtert. AMAT Centura 5200 DxZ bietet auch erweiterte Diagnosen. Sein Detektorarray und dediziertes TDM-Modul (Schubabscheidungsmonitor) ermöglichen eine präzise Überwachung von in Echtzeit abgeschiedenen Filmen. Das System kann dann angepasst werden, um alle Prozessfehler auszugleichen und eine optimale Gleichmäßigkeit, Konformität und Qualität zu gewährleisten. Auch Sicherheitsmerkmale wurden nicht übersehen. ANGEWANDTE MATERIALIEN Centura 5200 DxZ verwendet eine Vielzahl von Schutzmechanismen, um einen sicheren Betrieb zu gewährleisten, einschließlich einer geschlossenen Kammer, einer Sicherheitstafel und Gasentladungssystemen. Der Reaktor verfügt außerdem über einen Notabschalter sowie einen automatisierten Endpunkterkennungsmechanismus zum Schutz von Personal und Ausrüstung vor gefährlichen Nebenprodukten. Zusammenfassend ist die Centura 5200 DxZ von AMAT ein leistungsstarker und robuster PECVD-Reaktor. Mit seiner einstellbaren Prozesszone, hohem Durchsatz und geringer thermischer Budgetfähigkeit bietet eine vollständige Kontrolle für verschiedene Waferbearbeitungsanwendungen. Die fortschrittlichen Diagnose- und Sicherheitsmerkmale sorgen dafür, dass das Gerät sicher und zuverlässig betrieben wird, um optimale Ergebnisse zu erzielen.
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