Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Centura 5200 DxZ #9091401 zu verkaufen

Es sieht so aus, als ob dieser Artikel bereits verkauft wurde. Überprüfen Sie ähnliche Produkte unten oder kontaktieren Sie uns und unser erfahrenes Team wird es für Sie finden.

ID: 9091401
Wafergröße: 8"
Weinlese: 1997
ILD System, 8" Mainframe: Centura 5200 Transfer chamber: Centura 5200 (2) Loadlock chambers: narrow body (4) Process chambers: DxZ Robot: HP+ Loading configuration: narrow body dual auto-indexer loader System controller / AC power box (2) CRT monitors with light pen RF generator rack Heat exchanger: AMAT 0 Chamber A: DxZ Chamber B: DxZ Chamber C: DxZ Chamber D: DxZ Chamber E: MS Cool Gases: TEOS, O2, NF2, N2 Software version: E3.0 208VAC, 3 Phase 1996 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura 5200 DxZ ist ein plasmaverbesserter PECVD-Reaktor (Chemical Vapor Deposition) der nächsten Generation, der zur Abscheidung fortschrittlicher Materialschichten auf Substraten für die Herstellung von integrierten Schaltkreisen (IC) konzipiert ist. Das PECVD-Verfahren ist ein Mittel zur Verleihung von abgeschiedenen Folien, die gleichmäßig dick und fehlerfrei sind. AMAT Centura 5200 DxZ ist mit einer Reihe von Funktionen ausgestattet, die seine Leistung verbessern und eine breite Palette von Prozessfunktionen ermöglichen. Es verfügt über zwei Kammern mit einer unabhängigen Stromversorgung für jede Kammer, so dass die Installation von bis zu zwei Filmen gleichzeitig. ANGEWANDTE MATERIALIEN Centura 5200 DxZ profitiert auch von einem radialen Temperaturprofiler, einer variablen HF-Vorspannung und einem fortschrittlichen Pumpsystem mit mehreren Vakuumstufen. Der Reaktor basiert auf einer hochdurchsatzreichen, kostengünstigen Fertigungsplattform, die durch die AMAT-proprietäre Simul-ProcessTM-Technologie erweitert wird. Diese Technologie kombiniert experimentelle und numerische Optimierungstechniken, um hochwertige Folien und optimale Abscheideraten zu gewährleisten. Centura 5200 DxZ liefert konsistente und zuverlässige Ergebnisse in einer Vielzahl von Prozessen, einschließlich Low-and High-K-dielektrische Abscheidung, Dünnschichtverkapselung, Seitenwand-Profilierung, Source/Drain-Engineering und flache Trench-Isolation. Darüber hinaus verhindert seine fortgeschrittene Kammerkonstruktion die Abscheidung von Metallverunreinigungen und verhindert, dass Partikel in die Vakuumkammer gelangen, was sonst zu Störungen und Defekten der abgeschiedenen Folien führen könnte. APPLIED MATERIALS bietet darüber hinaus eine Reihe von Prozessoptionen sowie die Möglichkeit, mehrere Prozesse gleichzeitig durchzuführen. Diese Funktionen ermöglichen es Benutzern, den verbesserten Durchsatz zu nutzen und die gesamte Verarbeitungszeit zu reduzieren. Darüber hinaus ist das System so konzipiert, dass es weniger Strom verbraucht als seine Vorgänger, was es zu einer umweltverträglichen Wahl und energieeffizienter macht. Darüber hinaus bietet AMAT/APPLIED MATERIALS Tools zur Überwachung der Systemleistung und zur Optimierung von Prozessen, die die Lebensdauer der Geräte verlängern und die Betriebskosten senken. Insgesamt ist AMAT/APPLIED MATERIALS Centura 5200 DxZ ein fortschrittlicher, effizienter und wirtschaftlicher PECVD-Reaktor, der die anspruchsvollsten Substratanforderungen der Branche erfüllt. Es bietet ausgezeichnete Leistung, Vielseitigkeit und Produktivität in einer Reihe von Prozessoptionen, die optimale Ergebnisse für die Abscheidung von fortschrittlichen Filmen für die Herstellung von integrierten Schaltkreisen (IC) gewährleisten.
Es liegen noch keine Bewertungen vor