Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Centura 5200 DxZ #9198724 zu verkaufen
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Verkauft
ID: 9198724
Wafergröße: 8"
CVD System, 8"
Loadlock Indexer
Process chamber lift
HP Robot
System information:
(3) Chambers:
Chamber A: DXZ SiN
Chamber B: DXZ SiN
Chamber C: DXZ SiN
Chamber E: MS Cool
LLA: Narrow
LLB: Narrow
Mainframe:
System placement: Through the wall
Robot type: HP Robot
Robot blade: Nickel coated AL
OTF
W/F Position sensor
Loadlock:
Loadlock cassette: Narrow
Wafer mapping: Basic
N2 Purge type: Tylan 2900
Chamber A, B and C:
Clean method: RF
Frequency: Single HF
Throttle valve type: Dual spring
Manometer: Dual 10/100 torr
Electrical:
Line frequency: 50/60 Hz
Line voltage: 200/208 V
Line amperage: 240A
System monitors:
1st Monitor: Through the wall
2nd Monitor: Stand alone
Generator (AC) rack:
(3) Generators: AE RFG 2000-2V
Umbilicals:
Monitor: 55ft
Signal cable length (S/C ~ MF): 50ft
HX Cable length: 55ft
Gas delivery options:
MFC Type: STEC 4400 MC
Valves: Veriflo 10 Ra Max
Filters: Millipore
Transducers: MKS with out display
Regulators: Veriflo
System cabinet exhaust: Top
Gas pallet configuration:
Chamber A, B & C: SEC4400
System controller:
Slot Top rack BD
2 System reset
3 Lk Det 1&2 orConv/TC
5 Lk Det 5&6 orConv/TC
6 Lk Det 7&8 orConv/TC
9 EWOB Centerfinder
12 Floppy disk drive
13 Hard disk drive
14 Chamber A interface
15 Chamber B interface
16 Chamber C interface
18 Chamber E interface
19 Mainframe interface
20 Loadlock interface
21 Chamber A Dl/O 1
22 Chamber A Dl/O 2
23 Chamber B Dl/O 1
24 Chamber B Dl/O 2
25 Chamber C Dl/O 1
26 Chamber C Dl/O 2
29 Chamber E DI/O
30 Synergy SBC(V440)
32 Video
33 I/O Expansion
34 SEI
35 Chamber A Al/O
36 Chamber B Al/O
37 Chamber C Al/O
39 Mainframe Al/O 1
40 Chamber E/MF Al/O 2
41 Mainframe Dl/O 1
42 Mainframe Dl/O 2
43 Mainframe Dl/O 3
44 Mainframe Dl/O 4
45 Mainframe Dl/O 5
46 Mainframe Dl/O 6
47 Stepper 1
48 Stepper 2
49 Stepper 3
50 OMS (VMEX)
RF Generator:
Chamber Maker Model
A, B & C AE RFG 2000-2V 3155053-003B
RF Match box (Match multifunction adapter with interlock 7-J14 OHM):
Chamber Maker Model
A AE 3155077-003B
B & C AE 3155077-003A
Heat exchanger:
APPLIED MATERIALS AMAT0 Heat exchanger, 0010-70008.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura 5200 DxZ ist ein Halbleiterreaktor, der mit einer neuen Präzision und Leistung für die mikroelektronische Fertigung ausgestattet ist. Es nutzt die Vorteile der fortschrittlichen AMAT-Fertigungstechnologie, um kleine, präzise und konsistente Funktionen herzustellen. Der Reaktor ist mit einer fortschrittlichen Ionenquelle ausgelegt, die Ionen schnell aus der Ätzkammer hinzufügen und entfernen kann, um die Prozessleistung zu verbessern. Die High-End-Ionenquelle bietet überlegene Kontrolle und Präzision für genaues Ätzen. AMAT Centura 5200 DxZ ist zudem mit einem Kammerdesign der nächsten Generation ausgestattet. Die Kammer verfügt über vier Wände alle entworfen, um Hand in Hand zu arbeiten, um qualitativ hochwertige, genaue Ätzung mit minimalem Materialverlust zu produzieren. Die Wände dienen als hochpräzise Wände zur Abgrenzung von Ätzrezepten, zusätzlich zur überlegenen Temperatur- und Druckregelung während des Betriebs. Die Wände fördern auch den ruhigeren Betrieb und garantieren dennoch perfekte Genauigkeit. ANGEWANDTE MATERIALIEN Centura 5200 DxZ verwendet einen proprietären Substrathalter, um das Substrat sicher zu halten, um ein präzises Ätzen zu gewährleisten. Der Reaktor enthält auch ein computergesteuertes, automatisches Gasmischsystem, das sicherstellt, dass die richtige Menge an Gasen zum genauen Ätzen in die Ätzkammer geleitet wird. Als Gase werden Stickstoff, Argon und Sauerstoff verwendet. Ein geschalteter HF-Generator liefert die benötigte Leistung für den korrekten Ätzvorgang. Centura 5200 DxZ ist für Halbleiter- und MEMS-Herstellungsumgebungen konzipiert. Es ist in der Lage, große und kleine Wafer mit Merkmalsgrößen bis zu 25 Nanometer zu verarbeiten. Dieses Kraftpaket eines Reaktors eignet sich perfekt zum Entwerfen, Ausdünnen, Ätzen und Passivieren von Funktionen mit unübertroffener Präzision. Darüber hinaus ist es entworfen, um mit mehreren Ätzumgebungen und Ätzrezepten zu arbeiten, die Trockenätzen, Nassätzen, Plasmaätzen, reaktiven Ionenätzen, tiefenreaktiven Ionenätzen und ionisierten physikalischen Ätzen umfassen. Damit ist AMAT/APPLIED MATERIALS Centura 5200 DxZ die perfekte Wahl für die Herstellung leistungsstarker, präziser und konsistenter Produkte.
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