Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Centura 5200 DxZ #9206456 zu verkaufen
Es sieht so aus, als ob dieser Artikel bereits verkauft wurde. Überprüfen Sie ähnliche Produkte unten oder kontaktieren Sie uns und unser erfahrenes Team wird es für Sie finden.
Tippen Sie auf Zoom
Verkauft
ID: 9206456
Wafergröße: 8"
CVD System, 8"
Chamber A:
DXZ SiN
Clean method: RF
Frequency: Single HF only
Throttle valve type: Dual spring
Manometer: Dual 10/100 Torr
Chamber B:
DXZ SiN
Clean method: RF
Frequency: Single HF only
Throttle valve type: Dual spring
Manometer: Dual 10/100 Torr
Chamber C:
DXZ SiN
Clean method: RF
Frequency: Single HF only
Throttle valve type: Dual spring
Manometer: Dual 10/100 Torr
Chamber E: MS Cool
Mainframe:
System placement: Through the wall
Robot type: HEWLETT-PACKARD Robot
Robot blade: Nickel coated AL
OTF: Yes
W/F Position sensor: Yes
Loadlock:
Loadlock cassette: Narrow
Wafer slide sensor: Yes
Wafer mapping: Basic
N2 Purge type: TYLAN 2900
System monitor:
1st Monitor: Through the wall
2nd Monitor: Stand alone
Generator rack:
(3) Racks
Generator 1: AE RFG 2000-2V
Generator 2: AE RFG 2000-2V
Generator 3: AE RFG 2000-2V
Heat exchanger:
APPLIED MATERIALS, AMATO
Chiller: No
Dry pumps: No
Signal tower: No
Umbilicals:
Monitor: 55 ft
Signal cable length (S/C ~ MF): 50 ft
HX Cable length: 55 ft
Gas delivery option:
MFC Type: STEC 4400 MC
Valves: Veriflo 10 ra max
Filters: MILLIPORE
Transducers: MKS W/O Display
Regulators: Veriflo
Single line drop (SLD): No
System cabinet exhaust: Top
System controller:
Slot Rack BD
2 System Reset
3 Lk Det 1 &2 or Conv/TC
4 Lk Det 3&4 or Conv/TC
5 Lk Det 5&6 or Conv/TC
6 Lk Det 7&8 or Conv/TC
9 EWOB Centerfinder
12 Floppy disk drive
13 Hard disk drive
14 Chamber A interface
15 Chamber B interface
16 Chamber C interface
17 Chamber D interface
18 Chamber E interface
19 Mainframe interface
20 Loadlock interface
22 Chamber A Dl/O 2
23 Chamber B Dl/O 1
24 Chamber B Dl/O 2
25 Chamber C Dl/O 1
26 Chamber C Dl/O 2
29 Chamber E Dl/O
30 Synergy SBC(V440)
32 Video
33 I/O Expansion
34 SEI
35 Chamber A Al/O
36 Chamber B Al/O
37 Chamber C Al/O
39 Mainframe Al/O 1
40 Chamber E/MF Al/O 2
41 Mainframe Dl/O 1
42 Mainframe Dl/O 2
43 Mainframe Dl/O 3
44 Mainframe Dl/O 4
45 Mainframe Dl/O 5
46 Mainframe Dl/O 6
47 Stepper 1
48 Stepper 2
49 Stepper 3
50 OMS (VMEX)
RF Generator:
Chamber Maker Model
A AE RFG 2000-2V 3155053-003B
B AE RFG 2000-2V 3155053-003B
C AE RFG 2000-2V 3155053-003B
RF Match box:
Match multifunctional ADPTR
With interlock 7-J14 OHM
Chamber Maker Model
A AE 155077-003B
B AE 315S077-C03A
C AE 315S077-C03A
Power: 200/208 V, 240 A.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura 5200 DxZ ist ein hochleistungsfähiger, vielverarbeitender Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition (PECVD) Reaktor - ein Gerät zur Herstellung fortschrittlicher Materialien in der Halbleiter-, Display- und Photovoltaik-Industrie. Mit diesem Tool können Kunden eine Vielzahl von Herausforderungen in der Materialbearbeitung mit einem einzigen System bewältigen - zum Beispiel hochproduktive Oxidschichten, Abscheidung von PECVD a-Si-Materialien für PERL-Anwendungen sowie ultradünne Schichtabscheidung auf Substraten mit großem Durchmesser. Es bietet eine überlegene Feature-Steuerung in drei Dimensionen und bietet eine präzise Steuerung der kritischen Komponententopologie. AMAT Centura 5200 DxZ ist mit einigen der modernsten Kammertechnik der Branche ausgestattet. Es weist eine Wafersubstratgeometrie auf, die in der Lage ist, Substrate unterschiedlicher Größe bis zu 8 "zu verarbeiten, und besteht aus einer hochentwickelten Vorprozesskammer, gefolgt von einer Hauptkammer. Um Gleichmäßigkeit und Konsistenz im Prozessbetrieb zu gewährleisten, werden die Kammern temperaturgesteuert und genau überwacht, um stabile thermische Bedingungen zu gewährleisten. ANGEWANDTE MATERIALIEN Die Centura 5200 DxZ ist auch mit einer Reihe intuitiver Softwarepakete ausgestattet, die eine automatisierte Prozesssteuerung, eine Echtzeitüberwachung der Temperaturen und eine programmierbare Rezepterstellung ermöglichen. Dies ermöglicht die Optimierung der Werkzeugeffizienz und Prozesskonsistenz während der Produktion und trägt zur Senkung der Betriebskosten bei. Für einen erhöhten Durchsatz bietet Centura 5200 DxZ mehrere erweiterte Funktionen, darunter ein Dual-Düsen-Design, das die gleichzeitige Verarbeitung von zwei Substraten ermöglicht, und ein Dual-Phase-Modulationsverfahren, das höhere Abscheidungsraten erreichen kann. Das Kammerdesign umfasst auch eine fortschrittliche fensterlose Verdampfungstechnologie, die dazu beiträgt, die Anzahl der Wartungszyklen zu reduzieren und die Produktionskosten gegenüber herkömmlichen Ansätzen weiter zu senken. Darüber hinaus verwendet AMAT/APPLIED MATERIALS Centura 5200 DxZ ein hocheffizientes Prozessgasfördersystem, das Vorprodukte und den chemischen Einsatz reduziert, was die Materialkosten senkt und die Umweltbelastung reduziert. AMAT Centura 5200 DxZ ist ein hochentwickelter und vielseitiger Reaktor, der Anwendern eine hochmoderne Lösung zur Herstellung fortschrittlicher Materialien mit hoher Präzision bietet. Durch den Einsatz von intuitiver, hochautomatisierter Software und einer Vielzahl fortschrittlicher Funktionen ist es in der Lage, die sich ständig ändernden Anforderungen von Branchen zu erfüllen, die auf fortschrittliche Materialverarbeitung angewiesen sind.
Es liegen noch keine Bewertungen vor