Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Centura 5200 DxZ #9206456 zu verkaufen

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ID: 9206456
Wafergröße: 8"
CVD System, 8" Chamber A: DXZ SiN Clean method: RF Frequency: Single HF only Throttle valve type: Dual spring Manometer: Dual 10/100 Torr Chamber B: DXZ SiN Clean method: RF Frequency: Single HF only Throttle valve type: Dual spring Manometer: Dual 10/100 Torr Chamber C: DXZ SiN Clean method: RF Frequency: Single HF only Throttle valve type: Dual spring Manometer: Dual 10/100 Torr Chamber E: MS Cool Mainframe: System placement: Through the wall Robot type: HEWLETT-PACKARD Robot Robot blade: Nickel coated AL OTF: Yes W/F Position sensor: Yes Loadlock: Loadlock cassette: Narrow Wafer slide sensor: Yes Wafer mapping: Basic N2 Purge type: TYLAN 2900 System monitor: 1st Monitor: Through the wall 2nd Monitor: Stand alone Generator rack: (3) Racks Generator 1: AE RFG 2000-2V Generator 2: AE RFG 2000-2V Generator 3: AE RFG 2000-2V Heat exchanger: APPLIED MATERIALS, AMATO Chiller: No Dry pumps: No Signal tower: No Umbilicals: Monitor: 55 ft Signal cable length (S/C ~ MF): 50 ft HX Cable length: 55 ft Gas delivery option: MFC Type: STEC 4400 MC Valves: Veriflo 10 ra max Filters: MILLIPORE Transducers: MKS W/O Display Regulators: Veriflo Single line drop (SLD): No System cabinet exhaust: Top System controller: Slot Rack BD 2 System Reset 3 Lk Det 1 &2 or Conv/TC 4 Lk Det 3&4 or Conv/TC 5 Lk Det 5&6 or Conv/TC 6 Lk Det 7&8 or Conv/TC 9 EWOB Centerfinder 12 Floppy disk drive 13 Hard disk drive 14 Chamber A interface 15 Chamber B interface 16 Chamber C interface 17 Chamber D interface 18 Chamber E interface 19 Mainframe interface 20 Loadlock interface 22 Chamber A Dl/O 2 23 Chamber B Dl/O 1 24 Chamber B Dl/O 2 25 Chamber C Dl/O 1 26 Chamber C Dl/O 2 29 Chamber E Dl/O 30 Synergy SBC(V440) 32 Video 33 I/O Expansion 34 SEI 35 Chamber A Al/O 36 Chamber B Al/O 37 Chamber C Al/O 39 Mainframe Al/O 1 40 Chamber E/MF Al/O 2 41 Mainframe Dl/O 1 42 Mainframe Dl/O 2 43 Mainframe Dl/O 3 44 Mainframe Dl/O 4 45 Mainframe Dl/O 5 46 Mainframe Dl/O 6 47 Stepper 1 48 Stepper 2 49 Stepper 3 50 OMS (VMEX) RF Generator: Chamber Maker Model A AE RFG 2000-2V 3155053-003B B AE RFG 2000-2V 3155053-003B C AE RFG 2000-2V 3155053-003B RF Match box: Match multifunctional ADPTR With interlock 7-J14 OHM Chamber Maker Model A AE 155077-003B B AE 315S077-C03A C AE 315S077-C03A Power: 200/208 V, 240 A.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura 5200 DxZ ist ein hochleistungsfähiger, vielverarbeitender Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition (PECVD) Reaktor - ein Gerät zur Herstellung fortschrittlicher Materialien in der Halbleiter-, Display- und Photovoltaik-Industrie. Mit diesem Tool können Kunden eine Vielzahl von Herausforderungen in der Materialbearbeitung mit einem einzigen System bewältigen - zum Beispiel hochproduktive Oxidschichten, Abscheidung von PECVD a-Si-Materialien für PERL-Anwendungen sowie ultradünne Schichtabscheidung auf Substraten mit großem Durchmesser. Es bietet eine überlegene Feature-Steuerung in drei Dimensionen und bietet eine präzise Steuerung der kritischen Komponententopologie. AMAT Centura 5200 DxZ ist mit einigen der modernsten Kammertechnik der Branche ausgestattet. Es weist eine Wafersubstratgeometrie auf, die in der Lage ist, Substrate unterschiedlicher Größe bis zu 8 "zu verarbeiten, und besteht aus einer hochentwickelten Vorprozesskammer, gefolgt von einer Hauptkammer. Um Gleichmäßigkeit und Konsistenz im Prozessbetrieb zu gewährleisten, werden die Kammern temperaturgesteuert und genau überwacht, um stabile thermische Bedingungen zu gewährleisten. ANGEWANDTE MATERIALIEN Die Centura 5200 DxZ ist auch mit einer Reihe intuitiver Softwarepakete ausgestattet, die eine automatisierte Prozesssteuerung, eine Echtzeitüberwachung der Temperaturen und eine programmierbare Rezepterstellung ermöglichen. Dies ermöglicht die Optimierung der Werkzeugeffizienz und Prozesskonsistenz während der Produktion und trägt zur Senkung der Betriebskosten bei. Für einen erhöhten Durchsatz bietet Centura 5200 DxZ mehrere erweiterte Funktionen, darunter ein Dual-Düsen-Design, das die gleichzeitige Verarbeitung von zwei Substraten ermöglicht, und ein Dual-Phase-Modulationsverfahren, das höhere Abscheidungsraten erreichen kann. Das Kammerdesign umfasst auch eine fortschrittliche fensterlose Verdampfungstechnologie, die dazu beiträgt, die Anzahl der Wartungszyklen zu reduzieren und die Produktionskosten gegenüber herkömmlichen Ansätzen weiter zu senken. Darüber hinaus verwendet AMAT/APPLIED MATERIALS Centura 5200 DxZ ein hocheffizientes Prozessgasfördersystem, das Vorprodukte und den chemischen Einsatz reduziert, was die Materialkosten senkt und die Umweltbelastung reduziert. AMAT Centura 5200 DxZ ist ein hochentwickelter und vielseitiger Reaktor, der Anwendern eine hochmoderne Lösung zur Herstellung fortschrittlicher Materialien mit hoher Präzision bietet. Durch den Einsatz von intuitiver, hochautomatisierter Software und einer Vielzahl fortschrittlicher Funktionen ist es in der Lage, die sich ständig ändernden Anforderungen von Branchen zu erfüllen, die auf fortschrittliche Materialverarbeitung angewiesen sind.
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