Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Centura 5200 eMax #9244054 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura 5200 eMax ist ein Halbleiter, der Wafer-Ätz-, Abscheide-, Stripp- und Reinigungsreaktor ermöglicht. Das Gerät ist in der Lage, Substrate in einer Vielzahl von Konfigurationen und mit einer Reihe von Durchsatzmöglichkeiten zu verarbeiten. Die Centura 5200 ermöglicht eine präzise Steuerung der Prozessparameter, Maximierung der Düsenausbeute und Rentabilität. Die Centura 5200 ist mit einer Reihe innovativer Komponenten ausgestattet, die den Produktionsprozess optimieren. Es verfügt über eine flexible Endura Prozesskammer, die auf individuelle Prozessanforderungen zugeschnitten werden kann. Diese Kammer verwendet einen Slant Wall PECVD (Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition) -Prozess, der den Durchsatz erhöht, indem alle Prozesse in einem System konsolidiert werden. Diese Kammer verfügt über eine hochpräzise Plattform, die eine perfekte Ausrichtung des Wafers gewährleistet und eine präzise Ätzung und Abscheidung ermöglicht. Zusätzlich wird die Zero Compression Edge Isolation (ZCEI) -Technik in der Kammer implementiert, die die Steuerung der Prozessparameter weiter erhöht und den gesamten Worflow verbessert. Die Centura 5200Further gewährleistet die Prozesskontrolle mit Durchsatz-Schutzmechanismen, die die Prozessbedingungen kontinuierlich überwachen. Dies ist eine Schlüsselkomponente der AMAT Trusted Integration Architektur, die zertifizierte Prozesskontrolle bietet und Qualität garantiert. Das Gerät verwendet auch fortschrittliche Vakuum-Design-Technologien, die saubere Prozesskammern und schnellere Zykluszeiten ermöglichen. Der Reaktor verfügt über eine Vielzahl spezialisierter Abscheide-/Ätzprozesse, die den Anforderungen einzigartiger Anwendungen gerecht werden. Es ist mit Siliziumnitrid-Abscheidungstechnologie ausgestattet und bietet erhöhte Konformität und überlegene dielektrische Eigenschaften. Metal Gates Abscheidetechnologie ermöglicht die Herstellung von dichten Hardmaskenschichten, die zugrunde liegende Merkmale während Ätzphasen schützen. Darüber hinaus nutzt die Maschine den Naßreinigungs- und Ätzprozess Smooth Surface, um die Sauberkeit und Gleichmäßigkeit des Wafers während der Produktion zu optimieren und die Nachbearbeitungsleistung deutlich zu verbessern. Die Centura 5200 wird von einer integrierten Werkzeugplattform unterstützt, die eine effiziente Werkzeugüberwachung und -verwaltung ermöglicht. Es ist mit einem Smart Alarm Manager ausgestattet, der eine effiziente Automatisierung der Prozessüberwachung ermöglicht und kostspielige Retikel aus der Produktion verhindert. Die Performance Analytics Platform ermöglicht es Benutzern, potenzielle Probleme zu identifizieren und den Produktionsprozess in Echtzeit zu verwalten. Schließlich ist das Asset mit einer einheitlichen Cloud-API (Application Programming Interface) ausgestattet, die eine nahtlose Integration und einheitliche Steuerung über Device Interoperability und Tool-to-Tool Connectivity hinweg ermöglicht. AMAT Centura 5200 eMax ist ein leistungsstarker Halbleiter-Wafer-Ätz-, Abscheide-, Stripp- und Reinigungsreaktor. Mit umfassender Prozesssteuerung, fortschrittlichen Abscheide-/Ätzprozessen und einer integrierten Modellplattform ist die Ausrüstung ideal für die Produktion fortschrittlicher Halbleiterbauelemente.