Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Centura 5200 Epi #157515 zu verkaufen
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Verkauft
ID: 157515
Wafergröße: 8"
Reactor, 8"
3 HTF Epi chambers
ATM or RP
Standard (Legacy) gas panel.
AMAT/APPLIED MATERIALS Der Centura 5200 Epi Reaktor wurde entwickelt, um Halbleiterbauelemente mit außergewöhnlicher Qualität und robuster Leistung herzustellen. Dieser fortschrittliche Reaktor ist ein hochmodernes Werkzeug zur Herstellung von Hochleistungs-Halbleiterbauelementen. Der Reaktor verfügt über eine fortschrittliche thermische Steuerung mit Temperaturstabilisierung von bis zu 0,01 ° C, die eine effiziente Halbleiterbauelementherstellung mit einheitlichen Mikrofunktionen ermöglicht. Darüber hinaus verfügt der Reaktor über ein computergesteuertes Substrat-Temperaturregelsystem, das eine präzise Temperaturregelung ermöglicht, die entscheidend für die Minimierung von prozessbedingter Beanspruchung und die Minimierung von Defekten ist. Der Reaktor bietet zudem einen vollautomatischen, integrierten Geräteherstellungsprozess mit Echtzeit-Datenüberwachung und Echtzeit-in-situ-Analyse. So können Anwender Prozessparameter für unterschiedliche Materialien und Prozessbedingungen einfach optimieren. AMAT Centura 5200 Epi Reactor bietet Anwendern eine automatisierte Heiz-, Kühl- und Atmosphärensteuerung, um die Leistung von Halbleitersubstraten zu verbessern. Die Einheit basiert auf einer rechnergesteuerten Reaktionskammer mit bis zu drei Siliziumscheiben. Dies ermöglicht eine schnelle Geräteherstellung und Minimierung der Bearbeitungszeit sowie eine verbesserte Substratgleichförmigkeit. Der Reaktor ist außerdem mit einer Laminar-Flow-Gasverteilungsmaschine ausgestattet, um eine gleichmäßige Gasverteilung über das gesamte Gefäß zu maximieren, die bis zu 0,1 oder 1,0 mbar Argon-Stickstoff- oder Argon-Wasserstoff-Gemische liefern kann. Dieses Werkzeug ermöglicht eine präzise Steuerung der Waferkammer, wodurch eine konsistente und wiederholbare Passivierung und Kreislaufbildung gewährleistet ist. Darüber hinaus ermöglichen die erweiterten Wafertemperatur- und Atmosphärensteuerungssysteme von APPLIED MATERIALS Centura 5200 Epi Reactor Anwendern die präzise Anpassung von Prozessparametern an ihre spezifischen Anforderungen an die Geräteherstellung. Die Anlage verfügt auch über nasse oder trockene Stickstoffgasbestandteile und eine Vielzahl von vorverdrahteten elektrischen Anschlüssen, die einen schnellen und einfachen Zugriff auf getestete Parameter während der Geräteherstellung ermöglichen. Das anwendungsorientierte Design des Centura 5200 Epi Reactor sorgt dafür, dass der Geräteherstellungsprozess individuell auf die Bedürfnisse der Anwender abgestimmt werden kann. Das Modell bietet eine Reihe benutzerfreundlicher Steuerungs- und Überwachungsfunktionen, die es Anwendern ermöglichen, ihren Prozess für maximale Ausbeute und Leistung zu optimieren. Darüber hinaus ist das Werkzeug so konzipiert, dass es zuverlässige und wiederholbare Produktionsergebnisse garantiert und im Handel erhältlich ist.
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