Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Centura 5200 MxP+ #9169931 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura 5200 MxP + ist ein Mehrkammer-Molekularstrahl Epitaxie (MBE) Reaktor entwickelt, um epitaktische Schichten auf verschiedenen Substraten wachsen, hergestellt von AMAT. Es arbeitet bei Temperaturen von -220 ° C bis 700 ° C und kann epitaktische Schichten aus Silizium und III-V-Materialien anbauen. Das Gerät ist einzigartig und ermöglicht die gleichzeitige Bearbeitung mehrerer Wafer mit MBE-Abscheideraten von bis zu 6.8Å/s. Es verfügt über einen fortschrittlichen Multi-Crystalline Photoresist (MCP) Film für präzises selektives Flächenwachstum (SAG) von epitaktischen Schichten. AMAT Centura 5200 MxP + nutzt ein Hochleistungs-Vision-System mit einer automatisierten Fokuseinheit und einer Wafer-Threading-Maschine für effizientes Wafer-Handling. Das Werkzeug kann auch mit einer Vielzahl von Waferübertragungsmechanismen zum Be- und Entladen von Wafern verwendet werden. Darüber hinaus ist die Anlage mit hochpräzisen geschlossenen Bewegungssteuerungssystemen und einem fortschrittlichen Interlock-Modell ausgestattet, um eine genaue und präzise Positionierung der Wafer zu gewährleisten. Es verfügt über einen leistungsstarken Drehmotor, der eine präzise Drehung des Wafers und eine genaue Positionierung des Wafers in den Be- und Entladeräumen ermöglicht. Es verfügt auch über eine umfassende Ausstattung von Sensoren und optische Rückkopplung für eine präzise Temperatur- und Druckregelung. Das robuste Vakuumsystem bietet eine stabile und konsistente Wachstumsumgebung und ist in der Lage, die gesamte Einheit sauber zu halten. APPLIED MATERIALS Centura 5200 MxP + umfasst eine fortschrittliche PC-basierte Interlock-Tracking-Maschine zur Echtzeit-Überwachung und detaillierten Prozessoptimierung. Es bietet auch eine einfach zu bedienende grafische Benutzeroberfläche für einfache Bedienung und Prozessparametersteuerung. Die Reaktionskammer ist mit einer Präzisionswaferheizung zur sehr ansprechenden Temperaturregelung ausgestattet. Es verfügt über mehrere Verschlusssysteme für die verschiedenen Quellen, die eine genaue Kontrolle der Materialzufuhr für die Abscheidung ermöglichen. Centura 5200 MxP + bietet unübertroffene Leistung und ist ideal für fortgeschrittene Anwendungen wie Supergitterforschung und integrierte 3D-Schaltungen, die durch selektive Flächenepitaxie ermöglicht werden. Es ist ein zuverlässiges Werkzeug zur Herstellung von Hochleistungs-Epitaxieschichten mit ausgezeichneter Schichtgleichförmigkeit und glatten Oberflächen. Es ist ein vielseitiges Asset, das leicht angepasst werden kann, um die Anforderungen verschiedener Anwendungen zu erfüllen.