Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Centura 5200 Phase I #9133092 zu verkaufen
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ID: 9133092
Oxide etcher, 8"
Wafer shape: JMF
Chamber Type/ Location Selected Option
System Configuration BASE
Position A Oxide Main Etch
Position B Oxide Main Etch
Position C Oxide Main Etch
Position F ORIENTER
Position A Configuration Oxide Main Etch
Position B Configuration Oxide Main Etch
Position C Configuration Oxide Main Etch
Position D Configuration
System Safety Equipment Selected Option
EMO Switch Type TURN TO RELEASE EMO ETI COMPLIANT
EMO Guard Ring INCLUDED
Smoke Detector At MF No Skin YES
Smoke Detector At Gen Rack YES
Smoke Detector At AC Rack YES
Water and Smoke Detector ALARM
System Labels ENGLISH
CHA - CHA - OXIDE
Chamber Options Selected Option
Process Kit USED
Turbo Pump Seikoseiki 301
Emission Endpoint Type Monocro
Oxide ESC USED Flat
BIAS RF GEN OEM-28B
MxP Oxide Throttle Butter fly
MxP Oxide Gate Valve VAT
CHB - CHB - OXIDE
Chamber Options Selected Option
Process Kit USED
Turbo Pump Seikoseiki 301
Emission Endpoint Type Monocro
Oxide ESC USED Flat
BIAS RF GEN OEM-28B
MxP Oxide Throttle Butter fly
MxP Oxide Gate Valve VAT
CHC - CHC - OXIDE
Chamber Options Selected Option
Process Kit USED
Turbo Pump Seikoseiki 301
Emission Endpoint Type Monocro
Oxide ESC USED Flat
BIAS RF GEN OEM-28B
MxP Oxide Throttle Butter fly
MxP Oxide Gate Valve VAT
Gas Delivery Options
Pallet Options Selected Option
Valve Fujikin
Regulator Fujikin
Gas Panel Pallet A Gas Panel Pallet A
Gas Line Requirement Selected Option
Pallet Pallet
Gas Line Configuration Selected Option
Pallet Corrosive Gas Line Qty 3
Pallet Inert Gas Line Qty 5
Filter Qty 8
Gas Panel Pallet B Gas Panel Pallet B
Gas Line Requirement Selected Option
Pallet Pallet
Gas Line Configuration Selected Option
Pallet Corrosive Gas Line Qty 3
Pallet Inert Gas Line Qty 5
Filter Qty 8
Gas Panel Pallet C Gas Panel Pallet C
Gas Line Requirement Selected Option
Pallet Pallet
Gas Line Configuration Selected Option
Pallet Corrosive Gas Line Qty 3
Pallet Inert Gas Line Qty 5
Filter Qty 8
Gas Panel Features Gas Panel Features
Gas Panel Features Selected Option
Gas Panel Controller VME I
Mainframe
General Mainframe Options Selected Option
Facilities Type REGULATED
Facilities Orientation MAINFRAME FACILITIES BACK CONNECTION
Loadlock/Cassette Options Selected Option
Loadlock Type NBLL W/ AUTO-ROTATION
Loadlock Cover Finish ANTI-STATIC PAINTED
Loadlock Slit Valve Oring Type VITON
Wafer Mapping STD
Wafer Out of Cassette Sensor YES
Cassette Present Sensor YES
Transfer Chamber Options Selected Option
Transfer Ch Manual Lid Hoist YES
Robot Type CENTURA HP ROBOT
Wafer On Blade Detector BASIC
Loadlock Vent BOTTOM VENT
Front Panel Selected Option
Front Panel ANTI-STATIC PAINTED
Signal Light Tower 4 COLOR SIGNAL LIGHT TOWER INCLUDING RED LIGHT
4 Color Signal Light Tower Configuration Selected Option
Top Light Color RED
Second Light Color YELLOW
Third Light Color GREEN
Fourth Light Color BLUE
Signal Light Tower Buzzer ENABLED
Second Signal Light Tower YES
Remote
System Controller Selected Option
Controller Type 86 INCH COMMON CONTROLLER
Cntrlr Electrical Interface BOTTOM FEED
Controller Exhaust TOP EXHAUST
Controller Cover Option YES
System Monitors Selected Option
System Monitor 2 TTW / different cable lengths
Monitor Cursor 2 BLINKING CURSOR
AC Rack Selected Option
GFI 30mAMP
AC Rack Types 84 INCH SLIM AC GEN RACK
Exhaust Collar 84 INCH SLIM RACK EXHAUST COLLAR
Umbilical Selected Option
Ctrlr to Mainframe Umbilical 25Ft
HX Control Cable Length 50Ft
Heat Exchanger Hose Length 65Ft
Pump Cable Length 65Ft
RF Generator Cable 65Ft
Pump Interface Only Selected Option
Pump Interface Qty Interface Only.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura 5200 Phase I ist ein für die Halbleiterherstellung konzipierter Reaktor. Es hat eine SiH4/NH3/DOP Endpunktätzung mit einer 56MHz HF-Quelle und ist in der Lage, Tiefen bis 8,5 Mikron zu ätzen, mit einem auf Phosphortrichlorid (PCl3) basierenden Ätzmodul. Die Kammer ist aus Edelstahl gefertigt und verfügt über einen Tieftemperaturbetrieb zur besseren Ätz-/Prozessverträglichkeit. Der Reaktor verfügt über einen Prozesssteuerungskasten und eine separate Luftschleuse zum Be- und Entladen von Kammern. AMAT Centura 5200 Phase I verfügt über eine große, intern beheizte, gasdichte Prozesskammer. Diese Kammer soll verhindern, dass Partikel und Ätzreagenzien beim Ätzen in den Wafer gelangen. Es kann bis zu 2 Zoll (5,08 cm) und 8000 lb (3,63 Tonnen) Halbleiterscheiben aufnehmen. Die Kammer verfügt über eine Vakuumausrüstung und einen Abgaskamin mit Umlenkleitblechen, um ein gleichmäßiges Ätzen und eine geringe Rückseitenverschmutzung zu gewährleisten. Der eingebaute Endpunktregler überwacht den Ätzvorgang, indem er den Druck innerhalb der Kammer, den Zustand des Gasfördersystems und den Strom über das Magnetron der Stromversorgung misst. Die Prozesskammer enthält außerdem ein automatisches Temperaturkompensationsmodul (ATCM) für verbesserte Prozesskonsistenz und -leistung. Der ATCM hat einen Bereich von 180 ° bis 260 ° C und bietet eine breite Palette von Prozessoptimierungsanpassungen. Es verfügt auch über eine flexible Temperaturregelung mit anwenderwählbaren Parametern zur Optimierung von Prozessparametern. Der Endpunkt-Ätzprozess soll eine effiziente und präzise Steuerung der Ätztiefen ermöglichen. ANGEWANDTE MATERIALIEN Die Centura 5200 Phase I verfügt über eine selbstabstimmende, 56 MHz HF-Stromquelle mit einer Vollwellenform-Prozesssteuerung. Diese Maschine ermöglicht es dem Bediener, Wafer mit unterschiedlichen Ätztiefen zu ätzen und hilft auch, Beschädigungen und Vernarbungen von Wafern zu verhindern. Schließlich wurde Centura 5200 Phase I entwickelt, um einen sicheren, zuverlässigen und wiederholbaren Prozess mit einem hervorragenden Endergebnis zu bieten. Es verfügt über eingebaute Sicherheitsfunktionen zur Warnung des Bedieners bei möglichen Fehlern. Das Tool verfügt auch über integrierte Wartungs- und Fehlerbehebungsfunktionen zur einfachen Analyse und Fehlerbehebung. Daher ist AMAT/APPLIED MATERIALS Centura 5200 Phase I eine ideale Bereicherung für die effiziente Herstellung von Halbleiterscheiben.
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