Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Centura 5200 Phase I #9186211 zu verkaufen

AMAT / APPLIED MATERIALS Centura 5200 Phase I
ID: 9186211
Wafergröße: 8"
Poly etcher, 8".
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura 5200 Phase I ist ein Hochleistungs-Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition (PECVD) Reaktor, der für die Abscheidung von hochreinen, spannungsarmen Abscheidungsfilmen entwickelt wurde. Dieser Reaktor verfügt über eine breite Palette von Verarbeitungstechnologien wie induktiv gekoppeltes Plasma (ICP) Ätzen, Ionenimplantation und Plasma Enhanced Atomic Layer Deposition (PEALD). Das Waferbett kann bis zu dreihundert mm (300 mm) und sechs Zoll (6 ") Wafer mit minimaler Verschmutzung verarbeiten. Es verwendet einen Gaskasten, um eine stabile und reproduzierbare Chemie für jede Wafergröße zu schaffen, die die gleichmäßige Dicke und Glätte jeder Ablagerung gewährleistet. Das Waferbett wird temperaturgesteuert, um die gleiche Substrattemperatur in jedem Prozesszyklus zu gewährleisten. AMAT Centura 5200 Phase I ist mit einer optimierten Mikrowellenanlage ausgestattet, die mehr Effizienz und Leistung als frühere Modelle hat. Dieses System stellt sicher, dass es eine konsistentere Leistung für Verarbeitungsschritte wie Ätzen und Abscheiden bereitstellen kann. Es ist auch optimiert, um Partikelzahlen während der Filmabscheidung zu reduzieren. Das Gerät ist mit einer Reihe von Prozessfähigkeiten ausgelegt, so dass der Benutzer eine Vielzahl von Materialien verarbeiten kann. Es ist für Dünnschichtabscheidungen, Sulfidätzen und anodische Bindungsverfahren optimiert und kann zur Abscheidung von Filmen wie Nitriden, Polysilicium, Oxiden und Kupfer verwendet werden. Darüber hinaus ist dieser Reaktor in der Lage, amorphe und polykristalline Materialien abzuscheiden, was ein schnelles Prototypen oder Ausrollen von Produkten ermöglicht. Die Maschine wird auch mit einem Temperaturregler geliefert, der auf die gewünschte Wafertemperatur eingestellt werden kann. Der Reaktor ist auch mit einem automatischen Druck- und Durchflussregelwerkzeug ausgelegt, um einen konsistenten und optimierten Prozesskammerdruck aufrechtzuerhalten. Es wird auch mit einem Kohlenwasserstoffmonitor und einem mehrkanaligen HF-Durchflussmesser zur Optimierung der Prozesswiederholbarkeit geliefert. ANGEWANDTE MATERIALIEN Centura 5200 Phase I wurde entwickelt, um Industriestandards in Sicherheit und Zuverlässigkeit zu übertreffen. Es erfüllt SEMI-Sicherheitsstandards und ist CE-zertifiziert. Es hat auch eine Deep-UV-Lampe, die eine längere Haltbarkeit als herkömmliche Quecksilberlampen hat und eine saubere und sterile Abscheidungsumgebung gewährleistet. Dieser Reaktor ist eine gute Wahl für Kunden, die eine zuverlässige, robuste und sichere PECVD-Anlage suchen.
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