Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Centura 5200 PVD #9036839 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura 5200 PVD (Physical Vapor Deposition) Reaktor ist ein leistungsfähiges und präzises Werkzeug für die fortschrittliche Prozessentwicklung entwickelt. Diese industrielle Abscheideanlage bietet modernste Technologie, die hochreine, hochleistungsfähige Ablagerungen für die Herstellung von Dünnschichtmaterialien bereitstellen kann, die in einer Vielzahl von Anwendungen verwendet werden. Das System ist in der Lage, epitaktisch, amorph und polykristalline Abscheidung mit ausgezeichneter Gleichmäßigkeit und Zuverlässigkeit und verfügt über eine in sich geschlossene Umgebung mit einer effizienten Energieübertragung und niedrigen Hintergrund Kammerrauschen. Das Gesamtdesign des AMAT Centura 5200 PVD-Reaktors umfasst eine geschlossene Frontladekammer, die abgedichtet ist, um das Eindringen externer Verunreinigungen zu verhindern. Innerhalb der Reaktionskammer befindet sich eine stabile Umgebung, die dazu beiträgt, die Temperaturhomogenität auf einem niedrigen Niveau zu halten und gleichzeitig eine gleichmäßige Energiezufuhr an mehrere, unabhängige Prozessgase ermöglicht, die für einen erfolgreichen Abscheidungsvorgang benötigt werden. Darüber hinaus ist die vordere Ladekammer zugänglich und für schnelles, sicheres und bequemes Be- und Entladen von Proben ausgelegt. Zu den wichtigsten Komponenten von APPLIED MATERIALS Centura 5200 PVD-Reaktor gehören ein Mehrzonen-Quarz-HF-Substrathalter, mit dem der Benutzer die Verweilzeit und das Fließprofil der Prozessgase einstellen kann. Es hat auch die Fähigkeit, Substrate zur gleichmäßigen Abscheidung effektiv zu dispergieren. Der Reaktor verfügt außerdem über mehrere Duschkopfanordnungen, die eine gleichmäßige Verteilung der Prozessgase und eine bessere Kontrolle der Abscheidungsgleichförmigkeit ermöglichen. Darüber hinaus bietet der 5200 PVD-Reaktor Temperaturkontroll- und Kühlfunktionen für eine effiziente Wärmeabfuhr, um eine stabile und niedrige Temperaturumgebung zu erhalten. Die integrierte roboterbasierte Teilehandhabungseinheit sorgt für einen sauberen und effizienten Prozess durch eine automatisierte Probenhandhabung. Abschließend ist der Centura 5200 PVD (Physical Vapor Deposition) Reaktor eine Hochleistungsmaschine, die hervorragende Ergebnisse für Dünnschichtabscheidungsanwendungen bietet. Es bietet eine hervorragende Gleichmäßigkeit, Kontrolle und Stabilität, und sein innovatives Design senkt die Prozesskomplexität und macht eine häufige Wartung überflüssig. Dieses zuverlässige, effiziente und vielseitige Tool ist die perfekte Lösung für die fortschrittliche Prozessentwicklung.