Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Centura 5200 WxP #118471 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura 5200 WxP ist ein Hochleistungs-CVD-Reaktor (Chemical Vapor Deposition), der speziell als vielseitige Plattform für den Anbau ultradünner Filme und Nanostrukturen entwickelt wurde. Es handelt sich um ein hochflexibles CVD-Gerät mit hoher Temperatur (bis 1000 ° C) und einer breiten Palette von Funktionen und Funktionen. AMAT Centura 5200 WxP hat zwei separate Reaktionskammern. Die Hauptreaktorkammer ist das Herzstück des CVD-Systems, wobei die zweite Kammer für Hilfsprozesse wie Vor- und Nachabscheidungsprozesse verwendet wird. Die Hauptreaktorkammer ist in der Lage, Vier-Zoll-Durchmesser-Wafer gleichzeitig mit einer hohen thermischen Gleichmäßigkeit über die Oberfläche zu verarbeiten. Die Reaktionskammer hat eine maximale Temperatur von 1000 ° C mit einem Bereich von 0-1000 ° C in 1 ° C Schritten. Es ist mit einer programmierbaren Hochtemperatur-Gasfördereinheit, Temperier- und Gasmischmaschine und einem Massenstromregler zur präzisen Gasförderung ausgestattet. Der CVD-Reaktor ist mit einer Vielzahl innovativer Technologien ausgestattet, darunter ein proprietäres Pulsgas-Ladewerkzeug, eine digitale Temperaturregelung in Echtzeit und ein Doppelquarz-Opferfenster in der Hauptreaktionskammer. ANGEWANDTE MATERIALIEN Centura 5200 WxP verfügt auch über erweiterte Fähigkeiten für die thermische und nicht-thermische Integration verschiedener Prozessgase sowie Unterstützung für bis zu vier verschiedene Quellgase gleichzeitig. Eines der einzigartigen Merkmale von Centura 5200 WxP ist seine Closed-Loop-Technologie, die CVD-Abscheideprozesse ohne manuellen Eingriff automatisieren und präzise steuern kann. Dies ermöglicht eine automatisierte Prozesssteuerung mit minimalem menschlichen Eingriff. AMAT/APPLIED MATERIALS Centura 5200 WxP kann verwendet werden, um eine Vielzahl von Dünnschicht- und Nanostrukturen Materialien, wie Metalle, Oxide, Polymere und funktionalisierte Materialien abzuscheiden. Es ist eine fortschrittliche Abscheidungsplattform, die in der Lage ist, eine breite Palette komplexer Materialien abzuscheiden, von nanoskaligen Strukturen bis hin zu dielektrischen Materialien mit hohen k. Die hohen Temperaturen und die hauchdünnen Abscheidungsfähigkeiten des Modells machen es ideal für Forschungsanwendungen mit ultradünnen Filmen und Nanostrukturen, wie Quantencomputing und Sensoren. AMAT Centura 5200 WxP ist eine leistungsstarke und vielseitige CVD-Ausrüstung, die eine breite Palette von ultradünnen Folien und Nanostrukturen herstellen kann. Seine fortschrittliche Echtzeit-Temperaturregelung, gepulste Gasbeladung und mehrere Prozessgasfähigkeiten machen es zur idealen Wahl für die Abscheidung komplexer Nanostrukturen und funktionaler Materialien. Mit seiner geschlossenen Automatisierung eignet sich die APPLIED MATERIALS Centura 5200 WxP gut für Forschungs- und Industrieanwendungen, die eine präzise Temperaturregelung und Effizienz erfordern.