Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Centura 5200 WxP #9200052 zu verkaufen

AMAT / APPLIED MATERIALS Centura 5200 WxP
ID: 9200052
Wafergröße: 6"-8"
WCVD System, 6"-8".
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura 5200 WxP ist ein Halbleiterprozessreaktor, der den Anforderungen einer Vielzahl von Halbleiterherstellungsanwendungen gerecht wird. Der Reaktor ist so konzipiert, dass er hinsichtlich Prozessstabilität und Wiederholbarkeit eine überlegene Leistung bietet. Es verfügt über eine einfach zu bedienende und kostengünstige Steuereinrichtung, die eine präzise Steuerung und Feinabstimmung der Prozessparameter ermöglicht, um maximale Ausbeute und Zuverlässigkeit des Geräts zu gewährleisten. Der Reaktor weist zwei Hauptkammern auf, die Hauptkammer und das größere Prozessmodul. Die Hauptkammer hat zwei Quell- und Waferhalterpositionen, mit einem eigenen Waferübertragungsroboter. Das Prozessmodul umfasst zwei Effusionszellen zur Prozessgasförderung, Hauptscheibe und Quellstufe mit unabhängiger Wafer-Heiz- und Gasmischsteuerung sowie Temperatur- und Drucküberwachung. AMAT Centura 5200 WxP wurde entwickelt, um maximale Gleichmäßigkeit und Wiederholbarkeit für die Waferbearbeitung mit niedrigen Temperaturgradienten und kurzen Umlaufzeiten zu gewährleisten. Es zeichnet sich durch ein neuartiges Plattendesign aus, das einen lichtbogenförmigen Gasverteilungsmechanismus für eine bessere Gleichmäßigkeit und Wiederholbarkeit in den thermischen Bereichen verwendet. Zur genaueren Kontrolle wird auch das Plasma sorgfältig geregelt. Fortschrittliche Computersteuerungstechnologie wird für Fernbedienung und erweiterte Fehlererkennung und Warnung für Wartungszwecke verwendet. ANGEWANDTE MATERIALIEN Centura 5200 WxP ist für zuverlässigen Betrieb, Tag und Tag entwickelt. Es ist mit einem bewährten Gasventilsystem und einer einzigartigen Heißzonenspiegelanordnung ausgestattet, die eine optimale Ausnutzung von Quellgas im Plasma ermöglicht. Eine patentierte magnetische Quencheinheit mit zwei Strömen hilft, die höchste Genauigkeit der Kammerbedingungen zu erhalten. Darüber hinaus ist die Kammer mit einer modularen Heizmaschine ausgelegt, die eine schnellere Kühlung ermöglicht und die Sicherheit bei Unterbrechung von Prozessen verbessert. Centura 5200 WxP Reaktor ist entworfen, um die höchsten Standards der Zuverlässigkeit und Benutzerfreundlichkeit zu erfüllen. Es verfügt über erweiterte Funktionen wie eine einfach zu bedienende und intuitive grafische Benutzeroberfläche, ein automatisiertes Wafer-Handling-Tool und ein leistungsfähiges Datenerfassungs- und Analysepaket. Mit der Hochleistungsplattform des Reaktors erhalten Kunden maximalen Durchsatz, Ertrag und Gerätesicherheit bei minimalen Wartungskosten. Dies macht AMAT/APPLIED MATERIALS Centura 5200 WxP zu einer idealen Wahl für fortgeschrittene Halbleiterherstellungsanwendungen.
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