Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Centura 5200 WxZ WCVD #9008251 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura 5200 WxZ WCVD (chemical vapor deposition) Reaktor ist ein fortschrittliches Stück Halbleiterverarbeitungsausrüstung entwickelt, um dünne Filmschichten über Oberflächen für eine Reihe von Produkten abzuscheiden. Die Centura 5200 WxZ wurde speziell entwickelt, um gleichmäßige und konforme Dünnschichten sowohl für Verbundhalbleiter- als auch für Metallanwendungen abzuscheiden. Dies wird durch eine Vielzahl von Techniken, einschließlich Niedertemperatur physikalische Dampfabscheidung (PVD), atmosphärischer Druck chemische Dampfabscheidung (APCVD) und breiter Bereich chemische Dampfabscheidung (WCVD) erreicht. Die Centura 5200 WxZ ist mit einer Hochvakuumkammer zur Entfernung von Verunreinigungen aus der Abscheidungsumgebung ausgestattet, wodurch die Gefahr einer Kontamination während des Prozesses verringert wird. Zusätzlich ist die Kammer mit einer Mehrkammer-Wafer-Handhabungseinrichtung ausgestattet, die ein effizientes Be- und Entladen von Wafern beim Ablegen von Folien ermöglicht. Das Wafer Handling System macht es auch einfach, jeden Wafer während der Verarbeitung zu überwachen und zu steuern. Der Reaktor weist außerdem eine integrierte, rechnergesteuerte In-situ-Gasfördereinheit auf, die die Gasströme und Transportmedien präzise liefert, überwacht und steuert, um eine maximale Gleichmäßigkeit im Abscheidungsprozess zu erreichen. Die Centura 5200 WxZ ist eine leistungsstarke Hochleistungsmaschine mit erhöhter Präzision. Es ist in der Lage, Filme verschiedener Dicken und Texturen für eine breite Palette von Produkten abzuscheiden, darunter Galliumnitrid (GaN) und Galliumoxid (GaO) dünne Filme, sowie Metall-Oxid-Halbleiter (MOS) Strukturen für optoelektronische Anwendungen. Mit diesem fortschrittlichen Tool können Anwender eine höhere Prozesswiederholbarkeit und einen höheren Durchsatz erzielen. Neben der präzisen Steuerung bietet die Centura 5200 WxZ auch überlegene Zuverlässigkeit und Langlebigkeit. Die Anlage besteht aus robusten Materialien, die für einen überlegenen Betrieb unter herausfordernden Bedingungen konzipiert sind. Es verfügt auch über ein fortschrittliches Prozesssteuerungsmodell, das es Anwendern erleichtert, Parameter in Echtzeit zu überwachen und zu ändern, wodurch jederzeit eine optimale Leistung gewährleistet ist. Insgesamt ist der AMAT Centura 5200 WxZ WCVD Reaktor eine zuverlässige und leistungsstarke Ausrüstung zum Abscheiden von dünnen Schichten und zur Erzielung überlegener Prozesswiederholbarkeit für eine Reihe von Anwendungen. Das fortschrittliche Wafer-Handling-System und die präzise Gasfördereinheit ermöglichen es Benutzern, einheitliche und konforme Filme mit maximaler Wiederholbarkeit zu erzielen. Die überlegene Bauqualität der Maschine macht sie auch zu einem starken und langlebigen Gerät, das auch den anspruchsvollsten Bedingungen standhält.