Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Centura 5200 #118476 zu verkaufen

AMAT / APPLIED MATERIALS Centura 5200
ID: 118476
Wafergröße: 8"
Poly Etch DPS System, 8" Centura 5200 mainframe Phase II facility HP Robot Widebody loadlocks Position A: DPS R1 Poly Etch Position B: DPS R1 Poly Etch Position C or D: DPS R1 Poly Etch Position E: Orienter Advanced Energy RF20R generator Advanced Energy RF5S generator Amat 0 Heat Exchanger Neslab HX-150 chiller.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura 5200 ist ein fortschrittlicher Halbleiterätzreaktor, der Hochleistungs-Photolithographielösungen für Ätzanwendungen liefert und bei der Herstellung komplexer Schaltungen eingesetzt werden kann. Es bietet eine breite Palette von Ätz- und Abscheidelösungen für verschiedene Anwendungsbedürfnisse und ist sehr zuverlässig für wiederholbare hochwertige Ergebnisse. Das Gerät ist mit einer einzigartigen Kombination aus Dual-Source-Plasmaerzeugung und mehreren automatischen Nachfüllpumpsystemen ausgestattet. Das Dual-Source-Plasma ermöglicht Anwendungen zum Ätzen von Mehrschichtmaterialien oder weit komplexeren Substraten und Eigenschaftsgrößen. Die Vakuumkammer verfügt auch über eine „Load-Lock“ -Funktion, die es ermöglicht, Späne schnell zu beladen und zu entladen, während Verunreinigungen minimiert werden. AMAT Centura 5200 ist in der Lage, eine breite Palette von Foliendicken, Profilformen und Funktionsgrößen bereitzustellen. Das System ist mit automatisierten Softwarefunktionen ausgestattet, so dass Benutzer Prozessrezepte anpassen und das Gerät genauer steuern können. Es bietet auch eine breite Palette von In-Line-Umgebungsüberwachungs- und Rückkopplungssteuerungsfunktionen, so dass die Maschine Prozessanomalien schnell erkennen und angemessen reagieren kann. ANGEWANDTE MATERIALIEN Centura 5200 kann eine Vielzahl von Materialien verarbeiten, darunter SiO2, SiC, Al2O3, GaAs, GaN und andere Materialien. Das Tool unterstützt auch fortgeschrittene Ätzprozesse wie Ätzen von magnetischen Aufzeichnungsmedien und MEMS-Anwendungen. Es ist auch in der Lage, eine gleichmäßige Filmabscheidung mit hohen Ausbeuten und ausgezeichneter Ätzgleichmäßigkeit zu erzeugen. Centura 5200 bietet eine breite Palette von Prozessvariablen, einschließlich Temperatur, Druck, Zeit, Reaktantgase und andere Parameter, die auf spezifische Anwendungsanforderungen eingestellt werden können. Es bietet auch eine überlegene Prozesskontrolle und Wiederholbarkeit, so dass Anwender konsistente, qualitativ hochwertige Ergebnisse in der Produktion erzielen können. Darüber hinaus ist das Asset mit niedrigen Betriebskosten ausgelegt, was den Anwendern eine lange Lebensdauer eines zuverlässigen Betriebs bietet.
Es liegen noch keine Bewertungen vor