Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Centura 5200 #123066 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura 5200 (AMAT Centura 5200) ist ein metall-organischer chemischer Dampfabscheidungsreaktor (MOCVD), der zur Abscheidung von Metalloxidverbindungen wie Indiumzinnoxid (ITO) entwickelt wurde. Der Reaktor ist so konzipiert, dass er überlegene Prozessbreite und Gleichmäßigkeit bietet, was zu einer verbesserten Prozesswiederholbarkeit und Reproduzierbarkeit für FOV-Anwendungen führt. ANGEWANDTE MATERIALIEN Centura 5200 beschäftigt zwei unabhängige Verarbeitungskammern. Das Kammerdesign besteht aus einer Aluminium-Oxid-Oberkammer, die mit einer vollständig ausgeglichenen Warmwandgestaltung betrieben wird. Die untere Kammer wird mit Kühlwandausführung betrieben und ist mit Quarzwänden ausgebildet. Beide Kammern werden mit Lachgas (N2O) infundiert, das die Homogenität des Prozessgases zirkuliert und verbessert. Der Reaktor verfügt über eine erweiterte Quellkonfiguration, die die Abscheidung von Indium-Zinnoxid unterstützt, sowie andere Metalloxidverbindungen. Zu den Gasquellen gehören Linde kryogene Quellen, IBH und Novellus Gas Control Panel (GCP). Alle Quellen sind mit vorgeheizten und vernadelten Ventilsystemen ausgestattet, die dank der proprietären Montelli-Software sehr einheitliche Ablagerungen mit ausgezeichneter Rezeptkonsistenz erzeugen. Centura 5200 kommt auch mit Dual-Viewports für zerstörungsfreie in-situ optische Endpunktdetektion und Gaskontrolle zur präzisen Steuerung aller gasförmigen Komponenten im Reaktor sowie kundenspezifische Abscheidungsparameter für spezifische Materialien und Anwendungen. Das System ist für hohen Durchsatz ausgelegt, mit einem einzigen Werkzeug, das 2 Wafer gleichzeitig bearbeiten kann. Außerdem hat AMAT / APPLIED MATERIALS CENTURA 5200 eine Unterdruckniedrigtemperaturoperationsweise für die verbesserte Absetzungsgleichförmigkeit. Der Reaktor hat auch eine Hochtemperatur-Nachglühfähigkeit, die eine präzise Steuerung der Filmmikrostruktur und -dicke ermöglicht. Insgesamt ist AMAT Centura 5200 ein fortschrittliches MOCVD-Reaktorsystem, das eine gleichmäßige und präzise Oxidabscheidung auf mehreren Substraten ermöglicht. Seine intuitive und flexible Plattform bietet eine bemerkenswerte Flexibilität und Kontrolle für die präzise Abscheidung von Metalloxidverbindungen und ist somit eine ideale Wahl für hohe FOV-Anwendungen.