Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Centura 5200 #146830 zu verkaufen
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Verkauft
ID: 146830
Wafergröße: 8"
Weinlese: 1996
DxZ System with 3 Chambers, 8"
RF cleaning type
Application: CVD
Platform Type CENTURA I BODY
SBC Board V452
Chamber Type
Position A DxZ Nitride
Position B DxZ Nitride
Position C DxZ Nitride
Position D Blank
Position E MULTI COOLDOWN
Position F
CHA - DxZ CHAMBER
Chamber Options
Process Kit Customer Option
Baratron Guage 10Torr / 1Torr
Match AE 3155094-003A
Heater Lift 0010-38426
RF Generator RFG 2000-2V
EPD 0500-01047
Heater Driver 0190-09419
CHB - DxZ CHAMBER
Chamber Options Selected Option
Process Kit Customer Option
Baratron Guage 10Torr / 1Torr
Match AE 3155094-003A
Heater Lift 0010-38426
RF Generator RFG 2000-2V
EPD 0500-01047
Heater Driver 0190-09419
CHC - DxZ CHAMBER
Chamber Options Selected Option
Process Kit Customer Option
Baratron Guage 10Torr / 1Torr
Match AE 3155094-003A
Heater Lift 0010-38426
RF Generator RFG 2000-2V
EPD
Heater Driver 0190-09419
CHE - COOLDOWN CHAMBER
Type Multi cooldown
CHF - (OA) ORIENTER
Orienter Standard
Gas Delivery Options
Pallet Options
Component Selection STANDARD
Valve Veriflo
Transducer MKS
Regulator
Filter
Transducer Displays
MFC Type STEC 4400
Gas Panel Pallet A
Gas Line Requirement
Gas Line Configuration
Line 1 Gas NH3
MFC Size 2 SLM
Line 2 Gas N2
MFC Size 5SLM
Line 3 Gas SiH4
MFC Size 200 SCCM
Line 4 Gas NF3
MFC Size 1 SLM
Line 5 Gas N2O
MFC Size 1 SLM
Line 6 Gas CF4
MFC Size 3 SLM
Line 7 Gas N20
MFC Size 4V 239.7 SCCM / 2V 119.8SCCM
Line 8 Gas N2
MFC Size 5 SLM
Line 9 Gas HE
MFC Size 5SLM
Gas Panel Pallet B
Gas Line Requirement
Gas Line Configuration
Line 1 Gas NH3
MFC Size 2 SLM
Line 2 Gas N2
MFC Size 5SLM
Line 3 Gas SiH4
MFC Size 200 SCCM
Line 4 Gas NF3
MFC Size 1 SLM
Line 5 Gas N2O
MFC Size 1 SLM
Line 6 Gas CF4
MFC Size 3 SLM
Line 7 Gas N20
MFC Size 4V 239.7 SCCM / 2V 119.8SCCM
Line 8 Gas N2
MFC Size 5 SLM
Line 9 Gas HE
MFC Size 5SLM
Gas Panel Pallet C
Gas Line Requirement
Gas Line Configuration
Line 1 Gas NH3
MFC Size 2 SLM
Line 2 Gas N2
MFC Size 5SLM
Line 3 Gas SiH4
MFC Size 200 SCCM
Line 4 Gas NF3
MFC Size 1 SLM
Line 5 Gas N2O
MFC Size 1 SLM
Line 6 Gas CF4
MFC Size 3 SLM
Line 7 Gas N20
MFC Size 4V 239.7 SCCM / 2V 119.8SCCM
Line 8 Gas N2
MFC Size 5 SLM
Line 9 Gas HE
MFC Size 5SLM
Transfer Chamber
Transfer Ch Manual Lid Hoist YES
Robot Type CENTURA HP ROBOT
Robot Blade Option Ceramic Blade
Remotes
Heat Exchanger AMAT 0
Currently stored in a cleanroom
1996 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura 5200 Reaktor ist ein fortschrittliches Plasma-verbessertes chemisches Dampfabscheidungssystem (PE-CVD), das eine saubere, niedertemperaturverarbeitende Umgebung für die Herstellung von Halbleiterbauelementen bietet. Es ist ein Ultra-Hochvakuum, horizontal betriebener Reaktor und bietet höchste Flexibilität mit einer breiten Palette von CVD-Prozessrezepten und -materialien. AMAT Centura 5200 verwendet Mikrowellenfrequenzen, Ionenplattierung und plasmaverbesserte Reaktionsquellen, um steuerbare und reproduzierbare Prozesse zu erzielen, um die Dünnschichtschichten auf dem Substrat abzulegen, was die Leistung und Zuverlässigkeit des Geräts verbessert. Das Gerät kann die Quellgastemperaturen und Strömungsgeschwindigkeiten für erforderliche Prozessparameter sowie die Temperatur des Substrats selbst genau und präzise steuern. ANGEWANDTE MATERIALIEN Centura 5200 verfügt über ein Mehrzonen-Exothermie-Heizofensystem zur Maximierung der Produktivität sowie eine Gruppe von Endpunktsensoren, die sorgfältig in jeder Reaktionszone platziert sind, um homogene Prozesse für die konsistente Bildung hochwertiger Dünnschichtschichten zu gewährleisten. Letztlich garantieren die gleichmäßige Foliendicke, begleitet von fortschrittlicher Tiefenprofilanalyse (DPA), Prozessüberwachung und Rückkopplungsschleifen die Wiederholbarkeit auch äußerst komplexer Prozesse. Der Zusatz eines großflächigen Substrathalters bietet die Flexibilität, zwei verschiedene Prozesse gleichzeitig mit minimalem Platzbedarf zu betreiben. Darüber hinaus bietet der fortschrittliche automatische HF/DC-Stromgenerator des Centura 5200 eine präzise Leistungsregelung mit einer schnelleren Hochlaufzeit als herkömmliche Systeme. Schließlich enthält AMAT/APPLIED MATERIALS Centura 5200 eine benutzerfreundliche Software, die eine schnellere Prozesseinrichtung, Ergebnisanalyse, Rezepturbildung und mehr ermöglicht. Es wurde in wichtigen Labors weltweit umfassend getestet und zertifiziert und gilt als eines der fortschrittlichsten und effizientesten verfügbaren PE-CVD-Systeme.
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