Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Centura 5200 #188648 zu verkaufen
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Verkauft
ID: 188648
Weinlese: 1999
RTP annealing system
Software version: B6.20a
System power rating: 208 VAC, 3 phase
Loading configuration: narrow body dual auto-indexer loader
Ch position A: ATM RTP XE chamber N2, O2
Ch position B: ATM RTP XE chamber N2, O2
Ch position D: single wafer cooling chamber N2
Ch position F: single wafer cooling chamber N2
Configuration:
(1) AMAT CENTURA 5200 standard mainframe body
(1) AMAT CENTURA 5200 mainframe transfer chamber
(2) Narrow body load lock chambers
(2) RTP XE chambers
(1) HP+ robot wafer handling assembly
(1) System controller / AC power box
(2) CRT monitor with light pen
Remote components:
(2) Ebara dry pumps, A30W
Bay Voltax heat exchanger
No equipment manuals
Currently installed
1999 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura 5200 ist ein leistungsstarker und zuverlässiger Elektronenstrahlreaktor, der bei der Herstellung von Halbleiterchips verwendet wird. Dieser Kammerreaktor ist speziell für den schnellen Durchsatz, enge Prozeßregelparameter, maximale Ausbeute und anspruchsvolle Produktionszyklen ausgelegt. Die AMAT Centura 5200 verfügt über eine einteilige Endansichtskammer, die in einem Vakuumgehäuse platziert ist, wobei der Körper und die elektrischen Komponenten, wie Netzteile, Heizelemente, Manometer und die Kammertür, darüber platziert sind. Der einteilige Kammerkörper ist aus Edelstahl gefertigt, der speziell zum Schutz der Halbleiterchips vor Verschmutzung durch Luftpartikel und reaktive Spezies ausgelegt ist. Die Kammer der APPLIED MATERIALS Centura 5200 wird mit einem Inertgas wie Stickstoff gefüllt, das dann auf eine Temperatur von bis zu 400 Grad Celsius erhitzt wird. Diese Temperatur erhöht den Druck des Gases auf etwa 1,2 Torr. Das Gas wird dann innerhalb der Kammer durch eine Elektronenstrahlkanone explodiert. Durch die Explosion innerhalb der Kammer entsteht ein Plasma, das zur Verarbeitung, Ätzung und Abscheidung von Filmen und Materialien auf dem Halbleiterchip geeignet ist. Der Kessel besteht aus zwei getrennten Elementen, einem motorisierten Außenzylinder und einem dielektrischen Verteiler, die helfen, die HF-Feldverteilung innerhalb der Kammer zu steuern und eine optimale Gleichmäßigkeit zu gewährleisten. Der innere Zylinder wird durch keramische Stützen gehalten, die für geringe elektrische Verluste sorgen, die der Plasmagleichförmigkeit und gleichmäßiger Wafer Gleichmäßigkeit helfen. Die Elektronenstrahlpistole an der Rückseite der Kammer dient zur Zündung des Prozessgases und die HF-Energie wird dann dem Wafer zugeführt. Um die Prozessparameter zu steuern, bietet Centura 5200 eine Reihe von verschiedenen Stromversorgungsoptionen, die eine hohe Genauigkeit und Präzision ermöglichen. AMAT/APPLIED MATERIALS Centura 5200 Reaktor ist in der Lage, Spitzentemperaturen von über 1000 ° Celsius mit einem scharfen Temperaturprofil zu liefern, um sicherzustellen, dass der Prozess mit der richtigen Geschwindigkeit stattfindet. Die Einheitlichkeit der Prozesse und die Einheitlichkeit der Wafer von AMAT Centura 5200 gehören zu den höchsten der Branche. Insgesamt ist APPLIED MATERIALS Centura 5200 ein fortschrittlicher, hochleistungsfähiger und zuverlässiger Elektronenstrahlreaktor, der in der Lage ist, eine sehr reproduzierbare und zuverlässige Halbleiterfertigung mit besseren Ausbeuten und reduzierten Produktionszeiten bereitzustellen. Es wurde entwickelt, um die anspruchsvollsten Anforderungen an die Halbleiterproduktion zu erfüllen und bietet eine höhere Prozessgenauigkeit und Prozesssteuerung.
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