Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Centura 5200 #293685998 zu verkaufen
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ID: 293685998
Wafergröße: 6"
Weinlese: 1994
System, 6"
(3) Chambers
Oxide chamber for EMXP+, 6"
HP Robot
Gas panel: VME1/VME2
MFC/Gas filter missing
Gas box
Load lock
Simple cathode and ESC
Wall and cathode liner
SEIKO SEIKI 301
HV Module
RF Match box
ENI OEM 12B-03
Gas panel valve
VME1 Gas control
EOP Controller (3-channels)
Removed parts:
Generator
Pump
1994 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura 5200 ist eine Hochleistungsreaktionskammer, die speziell für präzise Prozessergebnisse in der Halbleiterindustrie entwickelt wurde. Es verfügt über einen neuartigen automatisierten Top-Load-Ansatz, der hochqualitative Ätz- und Abscheideprozesse ermöglicht. Die Ausrüstung bietet eine Vielzahl von Vorteilen in Bezug auf Kosten, Geschwindigkeit und Präzision und ist somit ideal für Kunden in einem breiten Spektrum wichtiger Fertigungsprozesse. Herzstück der AMAT Centura 5200 ist ein einzigartiges Dual-Pumpen-Vakuumsystem mit einem Bordgasmanager. Diese fortschrittliche Einheit bietet eine nahezu perfekte Druckkontrolle und ermöglicht es, hochkonsistente Ätz- und Abscheidungsleistung zu bieten und gleichzeitig Substratschäden oder Materialablation zu reduzieren. Darüber hinaus können die Vakuumspiegel auf 99,7% oder besser geregelt werden, wodurch aufwendige Vakuumbacken entfallen und die Ausrüstung erheblich verbessert wird. Die Reaktionskammer von APPLIED MATERIALS Centura 5200 ist mit einer maßgeschneiderten Substratsteckdose ausgestattet, die den Wafer während der Verarbeitung sanft hält. Dadurch wird sichergestellt, dass der Wafer perfekt in der Höhe bleibt und sich mit einer vordefinierten Geschwindigkeit dreht, um konsistente Ätz- und Abscheideeffekte zu gewährleisten. Zusätzlich wird die Maschine mit einem robusten internen Leitungsfilter gebaut, der die Kammer vor Staub, Schmutz und Verunreinigungen schützt. Die gründliche Kontrolle der Prozessparameter der Centura 5200 ermöglicht eine maximale Kontrolle über die unteren Profil- (Grenz-) Ätz- und Abscheideprozesse und die Exposition gegenüber erhöhten Temperaturen. Dies ermöglicht extrem fesselnde Ergebnisse und höchste Qualität. Neben den Hardwarefunktionen ist das Tool auch mit anspruchsvollen Steuerungs- und Automatisierungswerkzeugen ausgestattet, um wiederholbare, kostengünstige Ergebnisse zu gewährleisten. AMAT/APPLIED MATERIALS Centura 5200 ist für hochqualitative Ätz- und Abscheideprozesse ausgerüstet und sorgt jedes Mal für eine perfekte Ausführung. Seine fortschrittliche Vakuum-Anlage und kundenspezifische Substratsteckdose schaffen einheitliche Gerätestrukturen, während sein automatisierter Top-Load-Ansatz, seine ausgeklügelte Steuerung und Automatisierungsfunktionen sicherstellen, dass alle Prozessparameter genau abgestimmt sind, um die höchsten Qualitätsergebnisse zu liefern. Insgesamt bietet die AMAT Centura 5200 die perfekte Kombination aus Präzision und Leistung und ist damit eine ideale Wahl für fortschrittliche Halbleiterproduktionsprozesse.
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