Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Centura 5200 #9004510 zu verkaufen

ID: 9004510
Wafergröße: 8"
CVD System, 8" (3) Chambers W x Z Process.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura 5200 ist ein Reaktor, der für eine Vielzahl von Anwendungen in der Halbleiterindustrie eingesetzt wird. Es wurde speziell entwickelt, um ertragsstarke, fehlerfreie Substrate aus Materialien wie Silizium, Galliumarsenid und Polysilizium herzustellen. Die Hauptkomponenten von AMAT Centura 5200 sind der Ofen, die Hauptkammer und die Prozesskammer. Der Ofen ist das Hauptleistungszentrum des Gerätes und wird verwendet, um die Temperatur des Systems zu steuern sowie die notwendige Leistung für Prozesse bereitzustellen, die hohe Temperaturen oder Vakuum erfordern. Die Hauptkammer ist der Hauptbereich der Einheit, in der das Substrat zur Verarbeitung platziert wird. Es enthält auch einige der Instrumente und Kontrollen für den Betrieb der Maschine erforderlich. Die Prozesskammer befindet sich innerhalb der Hauptkammer und enthält alle für die eigentliche Bearbeitung des Substrats erforderlichen Einrichtungen. ANGEWANDTE MATERIALIEN Centura 5200 kann eine Vielzahl von Prozessen durchführen, vom Dotierstoffimplantat über epitaktisches Wachstum, Photoresist-Strippen bis hin zum Ätzen. Es unterstützt auch fortschrittliche Prozessströme wie atomare Schichtabscheidung (ALD) und chemische mechanische Planarisierung (CMP). Das Tool verfügt über eine umfangreiche Bibliothek von Rezepten und Rezepte können für bestimmte Anwendungen angepasst werden. Centura 5200 ist ein vollständig integriertes Asset mit fortschrittlichen Steuerungen und Technologien. Es verfügt über eine benutzerfreundliche Mensch-Maschine-Schnittstelle (HMI), die einfachen Zugriff auf die Modelleinstellungen und Rezepte ermöglicht. Das Gerät verfügt außerdem über eine geringe Temperaturgradientensteuerung und eine verbesserte Temperaturstabilität, die eine höhere Wiederholbarkeit und Genauigkeit ermöglicht. AMAT/APPLIED MATERIALS Centura 5200 ist eine ausgezeichnete Wahl für viele Anwendungen in der Halbleiterindustrie und bietet ertragsstarke, fehlerfreie Substrate und fortschrittliche Prozessabläufe. Es ist ein zuverlässiges, vielseitiges Reaktorsystem und wird durch AMAT Engagement für Qualität und Innovation unterstützt.
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