Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Centura 5200 #9061043 zu verkaufen
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ID: 9061043
Wafergröße: 8"
Weinlese: 1996
Etcher, 8"
Cassette nest plastic, 8"
Wafer shape: SNNF (Semi notch no flat)
System information:
Platform type: Centura
(3) Process chambers
SECS / GEM: Yes
Chamber location / Type / Current process:
Position A / MxP / Poly etch
Position B / MxP / Poly etch
Position C / MxP / Poly etch
Position F / Orienter (Laser assy not available)
Etch chamber:
Chamber type: MxP
Wafer clamp: Polyimide ESC
BS He cooling: Yes
He dump line: Yes
Turbo pump: SEIKO STP-301CVB
Endpoint type: Stand alone
Monochrometer: Per chamber
Generator model: ENI OEM-12B3
Max power: 1250w
Lid temp control: PID Control
Gate valve: Heated gate valve
Matcher: SMA-1000
Process manometer: MKS 1Torr
Gas panel:
Manual valve: Yes
Transducer: Yes
Transducer displays: Yes
Regulator: Yes
Filter: Yes
Gas panel facilities hook up: Single line drop bottom feed (Left side)
Exhaust: Top
Gas panel door interlock: Yes
Gas panel exhaust interlock: Yes
Gas panel pallet:
Corrosive gas line: (2) Lines per chamber
Inert gas line: (6) Lines per chamber
MFC type: STEC SEC-7440MC
Gas line (gas name, MFC size)
ChA
Line 1: CL2 / 80 / SEC-7440
Line 2: HBR / 100 / SEC-7440
Line 3: NF3 / 100 / SEC-7440
Line 4: CHF3 / 70 / SEC-7440
Line 5: O2 / 40 / SEC-7440
Line 6: CF4 / 100 / SEC-7440
Line 7: Ar / 100 / SEC-7440
Line 8: N2 / 100 / SEC-7440
ChB
Line 1: CL2 / 83 / SEC-7440
Line 2: HBR / 100 / SEC-7440
Line 3: NF3 / 100 / SEC-7440
Line 4: CHF3 / 70 / SEC-7440
Line 5: O2 / 40 / SEC-7440
Line 6: CF4 / 100 / SEC-7440
Line 7: Ar / 100 / SEC-7440
Line 8: N2 / 100 / SEC-7440
ChC:
Line 1: CL2 / 80 / SEC-7440
Line 2: HBR / 100 / SEC-7440
Line 3: NF3 / 100 / SEC-7440
Line 4: CHF3 / 70 / SEC-7440
Line 5: O2 / 40 / SEC-7440
Line 6: CF4 / 100 / SEC-7440
Line 7: Ar / 100 / SEC-7440
Line 8: N2 / 100 / SEC-7440
Mainframe:
Facilities type: Regulated
Loadlock type: Wide body
Loadlock auto-rotation: Yes
Wafer mapping type: Fast
Wafer mapping sensor: Yes
Cassette present sensor: Yes
Transfer chamber manual lid hoist: Yes
Robot type: HP
Emo button: Front side
Water leak detector: Yes
Signal tower (front): Green, yellow, red
(2) System monitor displays / controller: Front, remote
Remotes:
System controller & AC rack
EMO button: Yes
Smoke detector: Yes
Line frequency and voltage: 50/60Hz, 208VAC, 3ph
Remote UPS interface: Yes
Generator rack
EMO button: Yes
Smoke detector: Yes
Water leak detector: Yes
Heat exchanger type:
For wall: RISSHI CS-400SW-2 (0 - 80°C)
For cathode: RISSHI CS-400SW-2 (0 - 80°C)
Pumps type:
LL Chamber: EBARA A30W
Transfer chamber: EBARA A30W
Ch A: EBARA A30W
Ch B: EBARA A30W
Ch C: EBARA A30W
Gas scrubber: EBARA GTE-3
1996 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura 5200 ist ein Hochleistungsreaktor, der speziell für die Herstellung von hochmodernen Halbleitern entwickelt wurde. Es kombiniert fortschrittliche Abscheidetechnologien mit integrierten Automatisierungsfunktionen für optimale Prozessflexibilität und -steuerung. AMAT Centura 5200 verfügt über ein einzigartiges Hybrid-Abscheidekammerdesign, das aggressive Prozessabläufe ermöglicht und sowohl Niedertemperatur- als auch Hochtemperaturreaktionen ermöglicht. Auf diese Weise können Anwender aufgrund des Hybrid-Deposition-Verfahrens schneller verarbeiten, was den Durchsatz erhöht, indem die Ausfallzeiten im Zusammenhang mit Austauschkammern reduziert werden. Mit diesem Reaktor können Anwender gleichmäßigere und gleichmäßigere Folien mit höherem Durchsatz herstellen. APPLIED MATERIALS Centura 5200 hat auch eine Reihe von Prozessen zur Verfügung und anpassbare Software, mit der Benutzer das Produkt an ihre spezifischen Anforderungen anpassen können. Anwender können diese Software verwenden, um Ablagerungsrezepte und Prozessabläufe anzupassen und die Funktionalitäten des Reaktors optimal auf ihre Bedürfnisse abzustimmen. Auf diese Weise können Anwender Prozesse schnell ändern und wiederholen, um Prozessoptimierung und Zuverlässigkeit zu verbessern. Der Centura 5200 Reaktor verfügt über ein ausgeklügeltes Ferndiagnosesystem, das eine schnelle und einfache Wartung und Fehlerbehebung ermöglicht. Die integrierten Automatisierungssteuerungen und Diagnosesysteme bieten Anwendern die Flexibilität, die sie für eine Vielzahl von Aufgaben benötigen, von der Forschung und Entwicklung bis zur Produktion. Mit diesen flexiblen Steuerelementen können Anwender auch die Durchsatzraten maximieren und Prozessparameter in Echtzeit überwachen. Darüber hinaus ist der AMAT/APPLIED MATERIALS Centura 5200 Reaktor sicherheitstechnisch ausgelegt. Es verfügt über eine breite Palette von Sicherheits- und Umweltschutzmaßnahmen, einschließlich Schutzvorrichtungen und Kammerverriegelungen, um sicherzustellen, dass der Reaktor unter Einhaltung der Umweltvorschriften betrieben wird. AMAT Centura 5200 ist ein fortschrittlicher Reaktor mit einer breiten Palette von Funktionen und ist damit einer der besten Hochleistungsreaktoren auf dem Markt. Das fortschrittliche Abscheidekammerdesign, die integrierte Automatisierung und die flexible Steuerung machen es zu einer idealen Lösung für eine Vielzahl von Aufgaben, von der Forschung und Entwicklung bis zur Produktion.
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