Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Centura 5200 #9071275 zu verkaufen

Es sieht so aus, als ob dieser Artikel bereits verkauft wurde. Überprüfen Sie ähnliche Produkte unten oder kontaktieren Sie uns und unser erfahrenes Team wird es für Sie finden.

ID: 9071275
Wafergröße: 8"
Epi Reactor, 8" Application: Sige Bipolar/BICMOS Chamber type | Selected option: Chamber A: (RH) Reduced pressure EPI Chamber B: (RH) Reduced pressure EPI Chamber C: (RH) Reduced pressure EPI Chamber D: Empty Chamber E: Empty Chamber F: (CA) Single slot cooldown EMO Guard ring Chamber A/B/C: Thickness control options: Accusett 2 Recipe control software: No Third manometer: P/N 0220-35949, 200 Torr Gas line isolation: Yes Leak check port: None RGA port and valve: None Gas delivery options: ATM Capability in GP Only: No Gas panel type: Configurable Gas panel exhaust: Chamber B side MFC: P/N: 0221-18389, Unit 8561 MFC's Filter: Millipore Pump purge: Yes Chamber A/B/C Gas Option: SiHCl3: Not applicable SiH2Cl2: Yes SiH4: Yes GEH4: Yes Direct inject dopant: 2 Mixed dopant 1: Yes Mixed dopant 2: Yes Mainframe: Loadlock type: P/N: 0220-35948 Narrow body load locks with tilt-out WBLL Equalization: No Cassette platform type: Universal Common chamber options: Variable speed blower: Yes SW Monitor quartz pyrometer kit: 3 Lamps type: Ushio log life Susceptors: Tabbed susceptor Brands: Toshiba Lift pin type: Hollow silicon carbide Susceptor support shaft: NCP Susceptor support shaft Tips: Silicon carbide removable tips Exhaust inserts: Stainless steel Lower liners: Non-vented Pump isolation valve: No Exhaust deposit reduction: N/A Transfer chamber: Wafer sensing: On the fly cneterfinding Transfer chamber lid hoist: Yes Robot: HP + ENP Transfer chamber purge, 15 SLM: Yes Diagnostics and control: SECSTrace: Yes Vacuum pumps: Pump brand: Edwards Loadlock chamber pump: Edwards iQDP40 Transfer chamber pump: Edwards iQDP40 Proces chamber pump: Edwards iH1000 Monitors: (1) Through the wall and (1) Table mount Manual Set Tools and kits: Centura HT Temp profiling kit Upper dome centering ring kit HT Level 1 Consumable kit (2) Additional Level 1 consumable kit Additional Epi quartz and graphite spares: (2) Reduced pressure upper dome (2) Lower dome (4) Spare susceptors (4) Preheat rings Manually input spare: P/N: 3920-01120, 10-120 lb-in torque wrench 480 V with transformer, 60 Hz, 600 A Currently installed 2005 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura 5200 ist eine Reaktorausrüstung, die für den Einsatz in fortschrittlichen galvanischen, ätzenden und dielektrischen Verarbeitungsanwendungen entwickelt wurde. Es ist mit hochpräzisen photolithographischen Masken für die Musterbearbeitung ausgestattet. Das System wurde entwickelt, um physikalische und chemische Behandlungen über große Bereiche von Substraten schnell und effizient anzuwenden. AMAT Centura 5200 ist mit einer dicken Edelstahl-Außenschale konstruiert, die einen zuverlässigen und langlebigen Schutz vor Korrosion und anderen Umweltbedingungen bietet. Im Inneren der Schale werden modernste Steuermodule und eine Robotertransporteinheit eingesetzt, um Genauigkeit und Wiederholbarkeit in den Prozessen der Maschine zu gewährleisten. Das Werkzeug verfügt auch über eine automatisierte Reihe von Pumpen, Ventilen und anderen Bewegungssteuerungskomponenten, um eine zuverlässige und genaue Materiallieferung zu gewährleisten. Die Anlage kann verschiedene Arten von Badkonfigurationen sowie eine Vielzahl von Substratmaterialien aufnehmen, so dass es für verschiedene Anwendungen geeignet ist. Zusätzlich kann der Anwender je nach verarbeitetem Material die passende Chargendauer und Prozessparameter auswählen. Das Modell unterstützt auch eingebettete programmierbare Logik, die es ermöglicht, alle notwendigen Parameter für den spezifischen Prozess zu überwachen und zu steuern, so dass die Prozessbedingungen besser kontrolliert werden können. Der Reaktor bietet einen weiten Bereich der Betriebstemperatur von RT (Raumtemperatur) bis 350 ° C und die maximale Durchflussrate von 175 l/min; Sie eignet sich für Hochgeschwindigkeits- und Hochgenauigkeitsbeschichtungsprozesse. Der Benutzer kann auch benutzerdefinierte Parameter wie die gewünschte Verdampfungsrate angeben, und das Gerät kann alle Prozessergebnisse für die zukünftige Referenz erkennen und speichern. ANGEWANDTE MATERIALIEN Centura 5200 ist ein zuverlässiger Reaktor, der mit fortschrittlicher Technologie ausgestattet ist, um genaue, wiederholbare und effiziente Beschichtungs-, Ätz- und dielektrische Prozesse bereitzustellen. Es kann leicht konfiguriert werden, um viele verschiedene Arten von Substraten und Badkonfigurationen zu handhaben, so dass es ein zuverlässiger und vielseitiger Reaktor ist.
Es liegen noch keine Bewertungen vor