Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Centura 5200 #9116514 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura 5200 ist ein Hochleistungs-CVD-Reaktor (Chemical Vapor Deposition), der entwickelt wurde, um hochwertige Filme und Gerätestrukturen zu schaffen, die in der Halbleiterindustrie verwendet werden. Es ist in der Lage, Kupfer, Tantal, Wolfram und andere Filme auf Wafern mit einem Durchmesser von bis zu 200mm abzuscheiden. Die AMAT Centura 5200 verfügt über eine Kapazität von bis zu 28 Wafern, eine gleichzeitige Substratheizung und eine Gleichmäßigkeit von bis zu ± 3 ° C auf dem Substrat. Der CVD-Reaktor ist mit einer thermisch geschützten Hochleistungs- LaB6 (Lanthanhexaborid) sowie einer fortschrittlichen Verschlusskontrolle, Dual-Gas-Fähigkeit und Pulsdurchsatzregelung ausgestattet, um die für Hochleistungs-CVD-Filme erforderliche Temperatur und Gleichmäßigkeit zu gewährleisten. ANGEWANDTE MATERIALIEN Die Centura 5200 wurde entwickelt, um eine gleichmäßige Filmabscheidung und Gleichmäßigkeit über den Wafer zu gewährleisten, wodurch die erforderliche Gleichmäßigkeit für die Abscheidung von hochwertigen Folien mit einer möglichst geringen Variation von Wafer zu Wafer gewährleistet ist. Centura 5200 ist auch mit mehreren Prozessüberwachungswerkzeugen ausgestattet, die eine genaue und wiederholbare Filmabscheidung gewährleisten. Dazu gehören ein Echtzeit-optisches Emissionsspektroskopiesystem (RTOES), das während Prozesszyklen Informationen über die Plasmaumgebung liefert, und ein Ionensammelsystem, das das Emissionsspektrum der Ionen in der Umgebung misst. Die von diesen Systemen gesammelten Daten können verwendet werden, um den Abscheidungsprozess genau zu überwachen und bei Bedarf Anpassungen vorzunehmen, um hochwertige Folien zu gewährleisten. Darüber hinaus ist AMAT/APPLIED MATERIALS Centura 5200 mit einem Gasstromregler und einem Vakuum-Leck-Detektorsystem ausgestattet, um das Potenzial von Abscheidungsfehlern durch die Exposition des Substrats gegenüber atmosphärischen Konzentrationen reaktiver Chemikalien zu verhindern. Die AMAT Centura 5200 umfasst zudem eine Vielzahl computergesteuerter Instrumente und Datenverarbeitungstools, die die Integration und Steuerung komplexer CVD-Prozesse einfacher und schneller machen. Insgesamt ist APPLIED MATERIALS Centura 5200 als Hochleistungs-CVD-Reaktor für die Halbleiterindustrie konzipiert, mit einer breiten Palette von Funktionen, einschließlich feiner Prozesskontrolle, gleichzeitiger Dual-Gas-Abscheidung und Partikelsammlung und -überwachung. Seine fortschrittlichen Eigenschaften sollen eine einheitliche und wiederholbare Abscheidungsumgebung bieten und so die Herstellung hochwertiger Folien gewährleisten.