Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Centura 5200 #9145240 zu verkaufen

AMAT / APPLIED MATERIALS Centura 5200
ID: 9145240
Wafergröße: 8"
CVD System, 8" 3 Ultima chambers.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura 5200 ist ein leistungsstarker dielektrischer Ätzreaktor mit Plasmaätztechnologie zur Herstellung von Hochdurchsatzhalbleitern. Dieses Gerät bietet eine hoch kontrollierte, tieftemperaturgesteuerte, hochdichte Plasmaumgebung zum Ätzen empfindlicher Merkmale in fortgeschrittenen dielektrischen Materialschichten. Das System besteht aus einer Hochleistungs-Vakuumkammer, die Prozessdrücke von bis zu 5 Torr erreichen kann. Diese Kammer wird durch eine HF-Stromversorgung versorgt, wodurch ein Plasma hoher Dichte durch komplizierte Strukturen in der dielektrischen Schicht geätzt werden kann. Die Konstruktion der Kammer ermöglicht auch eine schnelle Evakuierung, so dass das Gerät schnelle Prozesszeiten und erhöhte Erträge erzielen kann. Eine proprietäre Gasinjektionsmaschine ermöglicht die Herstellung von Gasgemischen, die für das Plasmaätzen verschiedener dielektrischer Materialtypen förderlich sind. Durch die Steuerung des Gasgemisches, kombiniert mit der Leistung des Plasmas und der Temperatur der Kammer, kann dieses Werkzeug einige der anspruchsvollsten dielektrischen Schichten durchätzen. Der Prozess wird durch Non-Asset-Komponenten wie die hochauflösenden optischen (HROS) und Schattenmasken-Systeme weiter verbessert. Diese ermöglichen die Schaffung von hochauflösenden Merkmalen mit minimaler Verzerrung, was ein Muss für die Feinabstimmungsprozesse bei der Herstellung der dielektrischen Schicht ist. Neben dem Plasmaätzprozess stellt die Kammer auch eine Umgebung zur Verfügung, die mit Resist-Stripping-Prozessen kompatibel ist. Dies ermöglicht die Entfernung von Resistmaterial, was eine präzise Bildung von metallischen und dielektrischen Bauelementen ermöglicht, was für die Herstellung fortgeschrittener Halbleiterbauelemente entscheidend ist. AMAT Centura 5200 bietet hochpräzise und konsistente Prozesse zum Ätzen empfindlicher dielektrischer Schichten. Durch die Kombination fortschrittlicher Technologien und präziser Steuerungen ermöglicht dieses Modell verbesserte Prozessausbeuten und -durchsätze ohne Qualitätseinbußen. Diese Ausrüstung ist ein entscheidendes Werkzeug für die Weiterentwicklung moderner Halbleiterherstellungsprozesse.
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