Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Centura 5200 #9188519 zu verkaufen
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ID: 9188519
Wafergröße: 8"
Weinlese: 2003
HDP CVD System, 8"
Ultima TE process chamber
Wafer shape: SNNF
EMO Type: Turn to release
Chamber configuration:
Chamber A: HDP Ultima TE process chamber
Chamber B: HDP Ultima TE process chamber
Chamber C: HDP Ultima TE process chamber
Chamber E: Multi cooldown chamber
Chamber F: Orient chamber
Loadlock configuration:
Loadlock type: Wide body
Auto rotation
Cassette type: 200mm
Mapping function: FWM
Vent type: Variable speed
Fast vent option
Mainframe configuration:
Buffer robot type: HP+
Buffer robot blade: Ceramic blade
Remote monitor: Table mount
Clean system: RPS ( Remote plasma) clean
Sub-system configuration:
Chiller
RF Generator type: ETO
Gas panel configuration: Normal gas panel
Turbo pump: ADIXE ATH2300M
Gate valve: NC
Electrical configuration:
Line voltage: 208V
Full load current: 320 A
Frequency: 50/60Hz
CE Safety mark: English
2003 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura 5200 Reaktor ist ein Single-Wafer thermische Verarbeitung Ausrüstung, die die Herstellung von fortschrittlichen Halbleiter integrierte Schaltungen (ICs) ermöglicht. Es ist ein Werkzeug, das von Halbleiterherstellern zum Ätzen, Reinigen und anderen Operationen im Zusammenhang mit der Geräteherstellung verwendet wird. Das System verfügt über eine sechsstufige Prozesskammerkonfiguration, die die Einführung einer Vielzahl von korrosiven, aggressiven und anderen chemischen Spezies für eine Vielzahl von Behandlungen ermöglicht. AMAT Centura 5200 Reaktor unterstützt eine Vielzahl von Prozessen einschließlich Nass- und Trockenätzen, Abscheidung, Reinigung, Passivierung und Metallsputtern. Es wurde mit patentierter Zonenstufen-Steuerungstechnologie und einer einzigartigen Zweigas-Wafer-Rotationseinheit entwickelt, die eine präzise Steuerung der Prozessbedingungen auf verschiedenen Ebenen des Werkzeugs ermöglicht. Die Kombination dieser Technologien ermöglicht die lasergenaue Steuerung thermischer Prozesse, um höhere Integrations- und Leistungsstufen herzustellen. Das Werkzeug ist für den Einsatz in Serienumgebungen konzipiert und kann bis zu 500 Wafer pro Stunde verarbeiten. Der Zugriff auf Maschinenbedienungen erfolgt über eine intuitive grafische Benutzeroberfläche (GUI) mit einem Touchscreen-Display, das eine optimierte Steuerung von Parametern und einen schnellen Zugriff auf Prozessdaten ermöglicht. Das Tool verfügt über eine Reihe von automatisierten Dienstprogrammen, die eine Reihe von Funktionen bieten, um den Betrieb des Reaktors zu erleichtern. Dazu gehören Personalsicherheit, Wafer-Tracking, Wafer-Los-Qualitätskontrolle und automatisches Wafer-Setup, das die Überwachung der Prozesshistorie ermöglicht, um wiederholbare Leistung zu gewährleisten. ANGEWANDTE MATERIALIEN Centura 5200 Reaktor ist ausgestattet, um Umwelt- und Sicherheitsbedenken im Zusammenhang mit der Spanherstellung zu minimieren. Es wurde entwickelt, um die chemische Exposition und andere gefährliche Bedingungen im Zusammenhang mit der Herstellung fortgeschrittener ICs zu minimieren. Der Vermögenswert entspricht einer Vielzahl von Vorschriften und Standards einschließlich SEMI S2 und S8. Abschließend ist der Centura 5200 Reaktor ein hochentwickeltes thermisches Verarbeitungsmodell, das den Anforderungen der nächsten Generation der Halbleiterherstellung gerecht wird. Seine Reihe von Funktionen bieten eine Reihe von automatisierten Versorgungsunternehmen, um den Betrieb zu erleichtern und potenzielle Sicherheits- und Umweltrisiken zu verringern. Es ist ein Werkzeug, das höchste Leistung und Wiederholbarkeit für die fortschrittliche IC-Herstellung erreichen kann.
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