Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Centura 5200 #9196778 zu verkaufen
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Verkauft
ID: 9196778
Wafergröße: 8"
Weinlese: 1996
PECVD System, 8"
Process: eMax
JMF
SMIF Interface: No
Chamber A / B / C: eMax
Chamber F: Orientor
Load lock A / B: Narrow
(6) Wafer sensors
EPD Controller
System placement: System alone
Chamber A / B / C:
RF Match: 0010-30686
RF Generator: OEM-28B
ALCATEL ATH1600M Turbo pump
Throttle valve
MKS TYPE127 1TORR Mono meter
Mainframe information:
System placement: Stand alone
Robot type: HP+
L/L Wafer mapping
Slit Valve / Plate type: Standard
Robot blade: Ceramic
W/F Slippage sensor
N2 Purge
Heat exchanger (Chiller): No
Dry pumps: No
System monitor: Stand alone
Gas panel configuration: 7 Channels
Chamber A:
CL2 / 100 Sccm / SEC-4400M
CF4 / 100 Sccm / TYLAN 2900
N2 / 100 Sccm / SEC-4400
AR / 300 Sccm / SEC-4400M
O2 / 5 Slm / SEC-4400M
CHF3 / 20 Sccm / SEC-4400M
CF4 / 100 Sccm / SEC-4400M
Chamber B:
C4F8 / 50 Sccm / SEC-7440MC
CO / 500 Sccm / SEC-7440MC
N2 / 100 Sccm / SEC-4400
AR / 200 Sccm / SEC-4400M
O2 / 50 Sccm / SEC-4400M
CHF3 / 100 Sccm / SEC-4400M
CF4 / 50 Sccm / SEC-4400M
Chamber C:
CL2 / 100 Sccm / SEC-7440MC
CHF3 / 50 Sccm / TYLAN 2900
N2 / 100 Sccm / SEC-4400
AR / 2 Slm / SEC-4400M
O2 / 5 Slm / SEC-4400M
CHF3 / 20 Sccm / SEC-4400M
CF4 / 50 Sccm / SEC-4400M
Electrical:
Line frequency: 50 / 60 Hz
Power: 208 VAC, 4 Wires, 3 Phase delta
Missing parts:
(2) Slit valves
(3) Flow sensors & coolant lines
EPD Monitor
Liner for B-ch
1996 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura 5200 ist ein Hochleistungs-Verarbeitungsreaktor, der eine hervorragende Leistung für die Herstellung integrierter Schaltungen und fortschrittlicher Halbleiterbauelemente bietet. AMAT Centura 5200 ist mit fortschrittlicher Automatisierung und Flexibilität konzipiert, die Präzision und Geschwindigkeit bei der Ausführung komplexer Wafer-Verarbeitungsaufgaben ermöglicht. Angewandte Materialien Centura 5200 ist mit einer Vielzahl von automatisierten Funktionen ausgestattet, wie automatische Wafer-Handhabung, variable Position Be-/Entladen, automatisierte Resist- und Ätzprozesse, automatisierte Laser-Musterung und die Fähigkeit, bis zu sieben Wafer gleichzeitig zu verarbeiten. Darüber hinaus bietet die Centura 5200 erweiterte Inspektionsmöglichkeiten wie automatisches Kantenscannen und Fehlererkennung. Dieser erweiterte Funktionssatz ermöglicht AMAT/APPLIED MATERIALS Centura 5200 höhere Genauigkeit und Durchsatz als herkömmliche Verarbeitungssysteme. AMAT Centura 5200 ist in der Lage, einen zuverlässigen Betrieb unter einem breiten Spektrum von Verarbeitungsbedingungen zu gewährleisten, die konstante und vorhersehbare Leistung bei einer Vielzahl von Umgebungstemperaturen und -drücken. Es ist auch mit einem eingebauten Umweltüberwachungssystem ausgestattet, das den Betreibern hilft, sichere Verarbeitungsbedingungen zu gewährleisten. Darüber hinaus überwachen und justieren die fortschrittlichen dynamischen Steuerungssysteme von APPLIED MATERIALS Centura 5200 kontinuierlich den Innendruck des Reaktors und sorgen so für optimale Bedingungen während des gesamten Ätzprozesses. Centura 5200 bietet zudem zuverlässige und wiederholbare Prozessleistung durch den Einsatz präziser Prozessleitsysteme, die den Gasfluss und den Gasdruck kontinuierlich überwachen und anpassen. Dieses System ermöglicht die präzise Steuerung von Reaktantkonzentrationen sowie präzise Temperatur- und Durchflusszeiteinstellungen, so dass Anwender jedes Mal präzise Ergebnisse mit wiederholbaren Prozessen erzielen können. Darüber hinaus verfügt die AMAT/APPLIED MATERIALS Centura 5200 über einen integrierten Prozessleitrechner, der Echtzeitdaten zu Wafertemperatur und -druck sowie weitere wichtige Wafer-zu-Wafer-Prozessparameter liefert. Die erweiterten Automatisierungs- und Prozesssteuerungsfunktionen des AMAT Centura 5200 in Kombination mit seinem robusten Design und seiner robusten Konstruktion machen es zu einer ausgezeichneten Wahl für Anwendungen mit großem Ätzvolumen. ANGEWANDTE MATERIALIEN Die Centura 5200 ist in der Lage, bis zu 7 Wafer gleichzeitig zu verarbeiten und liefert bei jedem Zyklus zuverlässige und wiederholbare Ergebnisse. Seine erweiterten Automatisierungs- und Prozesssteuerungsfunktionen ermöglichen es dem Bediener auch, die Parameter ihrer Ätzprozesse effizient und genau zu steuern und eine durchgängige konsistente und vorhersehbare Leistung zu gewährleisten.
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