Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Centura 5200 #9198786 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura 5200 ist ein CVD-Reaktor für die industrielle Herstellung von Halbleitern. Dieser Mehrkammerreaktor unterstützt die Abscheidung von bis zu drei Materialien gleichzeitig für Anwendungen wie Kupfer-Dual-Damaszene-Strukturen, High-Aspect-Ratio-Kontakt- und MIM-Kondensatorstrukturen und erweiterte Metall-Leiterbahnen. Mit seinem patentierten Tamarac Amox Etch Single-Wafer-Modul und seiner Dual-Downward-Prozessfähigkeit sorgt AMAT Centura 5200 für die zuverlässige Produktion hochwertiger, leistungsstarker Halbleiterbauelemente. Im Mittelpunkt der APPLIED MATERIALS Centura 5200 stehen die fünf Systemkomponenten, die eine optimierte Prozessleistung und eine exzellente Prozesskontrolle gewährleisten. Centura 5200 ist mit einem Vor-Ort-Komplex-Modul (OCM) ausgestattet, das die Vorteile fortschrittlicher modellbasierter Steuerungstechnologie nutzt, um eine schnelle und präzise Prozessabstimmung unter unterschiedlichen Betriebsbedingungen zu ermöglichen. Dieses Modul bietet nahezu Echtzeit-Feedback zu Waferqualität, Abscheidungsrate und Prozessgleichförmigkeit. Darüber hinaus unterstützt das On-Wafer Electrical Test (OWET) Modul die schnelle Prüfung der elektrischen Eigenschaften von Wafern, während das Single-Wafer Etcher Module (SWEM) schnelle und genaue Ätzprozesse gewährleistet. AMAT/APPLIED MATERIALS Die Centura 5200 ist zudem mit einer Dual-Downward-Belastbarkeit für einen verbesserten Durchsatz sowie einer drehbaren Pinzette für eine verbesserte Handhabung großer Substrate ausgestattet. Die AMAT Centura 5200 verfügt zudem über eine benutzerfreundliche grafische Oberfläche, mit der Anwender problemlos auf Prozessrezepte zugreifen, Ablagerungsprofile untersuchen oder Prozessparameter anpassen können. Durch das OCM ermöglichen drei integrierte Kammern eine mehrschichtige Abscheidung, um qualitativ hochwertige Kupfer-Dual-Damaszene-Strukturen zu erzeugen und MIM-Kondensator- und Kontaktstrukturen mit Aspektverhältnissen unter 75 nm zu ermöglichen. Die integrierte Wärmeisolierung trägt dazu bei, Strahlverschmutzung zu minimieren und Wafer-Fehlausrichtung zu minimieren. Das Mainframe wurde auch für die Erweiterbarkeit konzipiert, mit der Fähigkeit, bis zu sechs Kammern zur gleichzeitigen Prüfung mehrerer Materialien oder Prozesse zu integrieren. Durch die Integration mit Werkzeugkits großer IC-Hersteller hilft APPLIED MATERIALS Centura 5200 Herstellern, Ertragsverbesserungen zu entwickeln und Geräte schneller auf den Markt zu bringen. Es ist für eine einfache Wartung ausgelegt und unterstützt bis zu einer Million Stunden durchschnittliche Zeit zwischen Ausfällen (MTBF). Auf diese Weise können Hersteller sowohl von erhöhter Geräteleistung als auch von reduzierten Ausfallzeiten profitieren. Insgesamt ist Centura 5200 für Hochleistungs-Industrieanwendungen mit hohem Durchsatz konzipiert und bietet erweiterte Abscheidefunktionen, die neue Geräte schneller auf den Markt bringen können. Mit seiner Kombination aus robuster Materialabscheidung, Prozesskontrolle und Erweiterbarkeit ist die AMAT/APPLIED MATERIALS Centura 5200 die ideale Wahl für die Herstellung fortschrittlicher Halbleiterbauelemente.