Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Centura 5200 #9205664 zu verkaufen
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ID: 9205664
Weinlese: 2003
CVD System, 8"
Open cassette
(4) WxZ MCVD Chambers
Transfer robot: HP Robot
(9) Gas channels
RF Generator: ENI OEM-12B3 (Each chamber)
RF Matcher: 0010-09750X (Each chamber)
2003 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura 5200 Reactor ist eine Reihe fortschrittlicher oxidationsbasierter Prozessmodule, die eine hervorragende Leistung in der heutigen vielfältigen Halbleiterherstellungsumgebung bieten. Das Modul bietet eine breite Palette von Funktionen wie Doppelkammer-Design für verbesserte Gleichmäßigkeit und eine hohe Druckfähigkeit von bis zu 20 Torr, die ideal für kleine Funktionsgrößen ist. Darüber hinaus bietet AMAT Centura 5200 eine effiziente Wärmemanagementausrüstung, die einen Hochleistungs-HF-Generator enthält, der zusätzliche Stabilität und Kontrolle in der Temperaturbilanz gewährleistet. Der Reaktor ist Teil der vollständig integrierten Centura-Plattform AMAT, die eine umfassende Suite von Hardware, Softwarepaketen und Nebenprodukten einschließlich einer manuellen Steuerschnittstelle, mehreren Instrumentierungsanschlüssen usw. für eine Vielzahl von Anwendungen umfasst. ANGEWANDTE MATERIALIEN Centura 5200 bietet ein Mehrkammer-Prozesssystem, das für Oxidabscheidungs-, Oxidätz- und CVD-Prozesse optimiert ist und gleichzeitig Silan stromabwärts, Nitrid stromabwärts und Oxid stromabwärts ermöglicht. So kann der Reaktor problemlos für seine Anwendung konfiguriert werden, sei es durch die nahtlose Integration mit der CVC-Software oder durch den Einsatz von APPLIED MATERIALS Automatisierungspaketen, die in den Reaktor integriert werden können. Ebenso ist das Gerät mit einer Vielzahl von Hardwarekomponenten kompatibel, die eine erhöhte Prozesskontrolle und eine hohe Genauigkeit und Wiederholbarkeit gewährleisten. Zu diesen Komponenten gehören ein integrierter rotierender Substratträger, temperaturgesteuerte Module, prozesssteuerbares Waferfutter, Seitenwandprodukthalter und Massenstromregler. In Bezug auf die Materialverträglichkeit ist Centura 5200 für den Einsatz mit einer Vielzahl von Materialien konzipiert, darunter SiO2, SiNx, Si, Al2O3 und W. Zusätzlich kann der Reaktor auf bestimmte Substrate abgestimmt werden, wodurch Anwender optimierte Prozessbedingungen erreichen können. Darüber hinaus bieten die fortschrittlichen Steuerungsalgorithmen und integrierten automatischen Tuning-Funktionen der Maschine erweiterte Prozessgleichförmigkeit bei minimaler Variation zwischen Wafern. Dies gewährleistet eine 100% ige Ausbeute und eine höhere Geräteleistung. Abschließend bietet AMAT/APPLIED MATERIALS Centura 5200 Reactor fortschrittliche Prozesssteuerung, Hochgeschwindigkeitsbetrieb und überlegene Wiederholbarkeit für optimierte Geräteleistung in der heutigen modernen Fertigungsumgebung.
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