Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Centura 5200 #9221091 zu verkaufen

Es sieht so aus, als ob dieser Artikel bereits verkauft wurde. Überprüfen Sie ähnliche Produkte unten oder kontaktieren Sie uns und unser erfahrenes Team wird es für Sie finden.

ID: 9221091
Wafergröße: 8"
WxZ System (CWxZ), 8" (3) Chambers HP Robot Load lock chamber: Narrow body Ceramic heater Microwave type Heat exchanger Missing parts.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura 5200 ist ein hocheffizienter und zuverlässiger Reaktor, der für verschiedene Halbleiterherstellungsprozesse eingesetzt wird. Es kombiniert eine einzigartige Reihe von Prozesstechnologien mit vorhersehbaren und wiederholbaren Ergebnissen, so dass es überlegene Leistung liefern kann. Es verfügt über eine hohe Durchsatzleistung und wurde entwickelt, um eine schnelle und konsistente Waferproduktion zu gewährleisten. AMAT Centura 5200 ist eine signifikant integrierte CVD-Ausrüstung (Chemical Vapor Deposition) auf Basis der Advanced Low-Pressure PECVD-Technologie. Es ist ein universelles Reaktorsystem, das konfiguriert werden kann, um eine breite Palette von Prozeßchemien und Gaszufuhr sowie unterschiedliche Abscheidungsraten und Kammergrößen durchzuführen. Das Gerät bietet branchenführende CVD-Funktionen mit geringerem Druck und ermöglicht eine Vielzahl von Dünnschichtabscheidungs- und Ätzanwendungen. Das PECVD-Prozessmodul vereint eine Reihe proprietärer Prozesssteuerungstechnologien, die höchste Präzision und Wiederholbarkeit bieten. Dies ermöglicht höhere Ausbeuten von höchster Qualität an CVD-Dünnschichtabscheidung. ANGEWANDTE MATERIALIEN Die Centura 5200 wird durch fortschrittliche Steuerungstechnologien weiter verbessert, die es Anwendern ermöglichen, den Abscheidungsprozess von Anfang bis Ende zu steuern. Dazu gehört eine fortschrittliche Wafer-Tracking-Technologie, die Anwendern eine verbesserte Prozess- und Ertragskontrolle sowie einen größeren Durchsatz bietet. Centura 5200 ist zudem mit einer komplett automatisierten Wärmemanagementmaschine für verbesserte Produktintegrität ausgestattet. Das Werkzeug ist in der Lage, bis zu 2000 Wafer pro Stunde Durchsatz und die üblichen Substrate wie Si, SiC, Co, W und Ta zu unterstützen. Alles in allem ist die AMAT/APPLIED MATERIALS Centura 5200 ein fortschrittlicher, zuverlässiger und effizienter Reaktor und eignet sich für eine breite Palette von CVD-Anwendungen. Es bietet überlegene Leistung, Wiederholbarkeit und hohe Erträge.
Es liegen noch keine Bewertungen vor